【技术实现步骤摘要】
本申请涉及原子层沉积，特别是涉及一种前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统。
技术介绍
1、在化学气相沉积（cvd）和原子层沉积（ald）等技术在工业领域广泛应用背景下，原子层沉积技术因其高精度镀膜能力在半导体、催化、电子和能源等领域备受关注。ald技术基于前驱体的半反应原理，为有效监测和精确控制前驱体的输送过程，需对前驱体脉冲时间进行精确测量。
2、然而，现有技术中，前驱体脉冲控制主要依赖于上位机工艺控制软件设定的时间延时，将自动泄漏减压阀开启后延时一段时间再关闭，将延时时间作为前驱体脉冲时间，这方式会导致实际前躯体脉冲时间与设定时间相差较大。
3、因此，为提高ald工艺中前驱体脉冲时间的控制精度，亟待研究和发展新的前驱体脉冲时间测量方案。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够准确测量前驱体脉冲时间的前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统。
2、第一方面，本申请提供了一种前驱体脉冲时...
【技术保护点】
1.一种前驱体脉冲时间测量系统，其特征在于，应用于原子层沉积系统，所述原子层沉积系统包括依次连通的储气罐、电磁阀和自动泄漏减压阀，所述测量系统包括：压力传感器和示波器；
2.根据权利要求1所述的前驱体脉冲时间测量系统，其特征在于，所述系统还包括：
3.一种前驱体脉冲时间测量方法，其特征在于，所述方法包括：
4.一种前驱体脉冲时间测量装置，其特征在于，所述装置包括：
5.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求3所述的方法的步骤。
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【技术特征摘要】
1.一种前驱体脉冲时间测量系统，其特征在于，应用于原子层沉积系统，所述原子层沉积系统包括依次连通的储气罐、电磁阀和自动泄漏减压阀，所述测量系统包括：压力传感器和示波器；
2.根据权利要求1所述的前驱体脉冲时间测量系统，其特征在于，所述系统还包括：
3.一种前驱体脉冲时间测量方法，其特征在于，所述方法包括：
4.一种前驱体脉冲时间测量装置，其特征在于，所述装置包括：
5.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求3所述的方法的步骤。
6.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求3所述的方法的步...
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