高剂量率放射治疗、系统和方法技术方案

技术编号:43167922 阅读:24 留言:0更新日期:2024-11-01 19:59
一种放射治疗系统(100)包括:X射线靶标(50、350),其被配置为将入射电子射束(45)转换成治疗性X射线射束(210);清除磁体(230),其被配置为将从X射线靶标(50、350)发射的不需要的粒子(235)重定向为远离治疗性X射线射束(210);以及粒子收集器(240),其被配置为在由清除磁体(230)重定向之后吸收不需要的粒子(235)。粒子收集器(240)可以被配置为耗散入射电子射束(45)的能量的至少50%。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的实施例涉及医学设备的领域。更具体地,本专利技术的实施例涉及用于高剂量率放射治疗的系统和方法。


技术介绍

1、外部射束辐射治疗可以在各种癌症和非恶性病症的处置中使用。通常,将包括例如光子(例如x射线、γ射线)和带电粒子(例如质子和电子)的电离辐射指向感兴趣区域。在许多情况下,这种电离辐射由线性加速器或回旋加速器生成。

2、flash放射治疗是一种新兴的放射治疗方案,其看起来降低辐射诱导的毒性,同时维持与更常规的放射治疗方案的肿瘤反应类似的肿瘤反应。flash放射治疗可以被表征为递送高辐射速率,例如大于约每秒40戈瑞(gy)的辐射速率,与常规放射治疗的若干分钟相比,这允许以几分之一秒递送总放射治疗处置剂量或总辐射剂量的大部分。例如,常规放射治疗处置可以包括以高达0.4gy/s的速率递送的12-25戈瑞(gy)的总剂量,从而需要数分钟的处置时间。相比之下,flash放射治疗可以以40gy/s的速率递送相似的总剂量,从而需要零点几秒的处置时间。

3、然而,与常规的瞬时剂量率相比,生成这种高剂量放射治疗需要使瞬时剂量率增加若干数量本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种放射治疗系统,包括:

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述粒子收集器被配置为耗散所述入射电子射束的能量的至少50%。

3.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述X射线靶标的厚度小于3.5mm。

4.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述X射线靶标包括由大于或等于42的原子序数表征的金属。

5.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述X射线靶标包括钨(W)。

6.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述X射线靶标被配置为耗散所述入射电子射束的能量的不到25%

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种放射治疗系统,包括:

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述粒子收集器被配置为耗散所述入射电子射束的能量的至少50%。

3.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述x射线靶标的厚度小于3.5mm。

4.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述x射线靶标包括由大于或等于42的原子序数表征的金属。

5.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述x射线靶标包括钨(w)。

6.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述x射线靶标被配置为耗散所述入射电子射束的能量的不到25%。

7.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述粒子收集器被配置为耗散所述入射电子射束的能量的至少75%。

8.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述粒子收集器包括由小于42的原子序数表征的材料。

9.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述粒子收集器包括覆层,所述覆层包括x射线吸收材料。

10.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述入射电子射束包括至少50mev的电子能量。

11.根据任一前述权利要求所述的放射治疗系统,其中所述x射线靶标被配置为旋转通过所述入射电子射束。

12.一种被配置用于flash放射治疗的放射治疗系统,所述系统包括:

13.根据权利要求12所述的放射治疗系统,还包括线性加速器,所述线性加速器被配置为将所述电子流加速到至少50mev的能...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·克莱顿
申请(专利权)人:瓦里安医疗系统公司
类型:发明
国别省市:

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