【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体集成电路领域，特别涉及一种设计规则检查结果的过滤方法、装置及存储介质。
技术介绍
1、在半导体行业中，图形设计系统(gds)的物理验证是必不可少的部分，物理验证其中一个方向就是物理多边形检查：设计规则检查(drc)。
2、半导体设计规则检查(design rule check，简称drc)是半导体设计过程中的一个关键步骤，它主要用于检查设计是否满足一定的设计规则。这些规则可能包括连线间距、连线宽度等工艺要求，以及电气规则如短路和开路等违例。在半导体设计过程中，设计规则检查的应用非常重要，它可以帮助工程师在设计阶段就发现可能存在的问题，从而避免在制造阶段出现问题，提高芯片的良率。总的来说，半导体是电子设备中的关键材料，而设计规则检查则是保证半导体设计质量的重要技术。
3、在做wat（wafer acceptance test）测试结构，hol（health of line）或者ovl等结构时，由于要检验工艺稳定性或者设计规则检查是否合理，往往会设计出很多违反设计规则检查的结构，这些结构会产生大量的设...
【技术保护点】
1.一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，所述过滤后的结果文件包括所述原始版图排除所述待过滤测试结构后的其它设计规则错误信息。
3.根据权利要求1所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，基于所述原始版图和所述待过滤测试结构，获取只包含所述待过滤测试结构相关图元的第二版图，包括：
4.根据权利要求3所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，获取所述原始版图中所有待过滤测试结构的图元包括：
5.根据权利要求4所述的一种设计规则...
【技术特征摘要】
1.一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，所述过滤后的结果文件包括所述原始版图排除所述待过滤测试结构后的其它设计规则错误信息。
3.根据权利要求1所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，基于所述原始版图和所述待过滤测试结构，获取只包含所述待过滤测试结构相关图元的第二版图，包括：
4.根据权利要求3所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，获取所述原始版图中所有待过滤测试结构的图元包括：
5.根据权利要求4所述的一种设计规则检查结果的过滤方法，其特征在于，所述待过滤测试结构包括wat测试结构、hol测试结构、ovl测试结构中的至少一种；
...【专利技术属性】
技术研发人员：鲁海洋，方益，
申请(专利权)人：杭州广立微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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