光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具技术

技术编号:43147903 阅读:18 留言:0更新日期:2024-10-29 17:48
本申请提供了一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具,其中,该方法包括在光通道阵列的通光端面上涂覆聚合物胶水;采用具有微纳图形阵列的压印模具与光通道阵列进行对位,使微纳图形阵列中的各个微纳图形单元与光通道阵列中的各个光通道的通光端面一一对应;通过纳米压印技术将微纳图形阵列压印至聚合物胶水上;对聚合物胶水进行固化,以使聚合物胶水上与微纳图形阵列对应的位置处固化形成微纳结构阵列。本申请可以在由多个光通道构成的光通道阵列的通光端面通过一次性的压印工艺即可成型出微纳结构阵列,从而极大程度地提升了加工效率,也提升了集成度,而且在微纳结构和对应的光通道之间无间隙,缩短了光路尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光学,尤其涉及一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具


技术介绍

1、随着全球通信市场的高速发展,信息交换容量日益增加,全光交叉架构成为了下一代干线交换网络的必然发展趋势。在此架构下,多端口光开关模块发挥了核心作用。为了保障开关模块的性能,业界主要采用自由空间方案实现,其中,光引出部件需要与微透镜阵列耦合,以实现各路光束准直,再进入主光路进行处理,最后再通过另一组光引出部件和微透镜阵列耦合后实现光的输出。

2、但是,微透镜阵列为独立的部件,微透镜阵列和光引出部件之间采用人工或半自动操作对位,对位精度和效率低下。同时,微透镜阵列自身具有一定厚度,通常与光引出部件之间也需要耦合间隙,导致光路占用空间大。


技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具,以解决上述现有技术中采用分立的微透镜阵列和光引出部件耦合的方案而导致光路占用空间大、对位精度和效率低的问题。

2、本申请第一方面提供了一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具分别对各个所述光通道阵列压印。

3.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具同时对各个所述光通道阵列压印。

4.根据权利要求1-3任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述对所述聚合物胶水进行固化,具体包括:

5.根据权利要求1-4任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其...

【技术特征摘要】

1.一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具分别对各个所述光通道阵列压印。

3.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具同时对各个所述光通道阵列压印。

4.根据权利要求1-3任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述对所述聚合物胶水进行固化,具体包括:

5.根据权利要求1-4任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,在向光通道阵列的通光端面上涂覆聚合物胶水之前,所述方法还包括:

6.根据权利要求1-5任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述微纳结构阵列的高度为0.1μm~300μm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述微纳结构阵列和所述光通道阵列的通光端面之间形成有压印残胶层,所述压印残胶层的厚度为0.01μm~200μm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列为玻璃光纤...

【专利技术属性】
技术研发人员:潘煦罗俊肖小康
申请(专利权)人:华为技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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