【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学,尤其涉及一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具。
技术介绍
1、随着全球通信市场的高速发展,信息交换容量日益增加,全光交叉架构成为了下一代干线交换网络的必然发展趋势。在此架构下,多端口光开关模块发挥了核心作用。为了保障开关模块的性能,业界主要采用自由空间方案实现,其中,光引出部件需要与微透镜阵列耦合,以实现各路光束准直,再进入主光路进行处理,最后再通过另一组光引出部件和微透镜阵列耦合后实现光的输出。
2、但是,微透镜阵列为独立的部件,微透镜阵列和光引出部件之间采用人工或半自动操作对位,对位精度和效率低下。同时,微透镜阵列自身具有一定厚度,通常与光引出部件之间也需要耦合间隙,导致光路占用空间大。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法、光学元件及模具,以解决上述现有技术中采用分立的微透镜阵列和光引出部件耦合的方案而导致光路占用空间大、对位精度和效率低的问题。
2、本申请第一方面提供了一种光通道阵列端面微
...【技术保护点】
1.一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具分别对各个所述光通道阵列压印。
3.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具同时对各个所述光通道阵列压印。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述对所述聚合物胶水进行固化,具体包括:
5.根据权利要求1-4任一项所述的光通道阵列端面微
...【技术特征摘要】
1.一种光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具分别对各个所述光通道阵列压印。
3.根据权利要求1所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列具有多个,采用所述压印模具同时对各个所述光通道阵列压印。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述对所述聚合物胶水进行固化,具体包括:
5.根据权利要求1-4任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,在向光通道阵列的通光端面上涂覆聚合物胶水之前,所述方法还包括:
6.根据权利要求1-5任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述微纳结构阵列的高度为0.1μm~300μm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述微纳结构阵列和所述光通道阵列的通光端面之间形成有压印残胶层,所述压印残胶层的厚度为0.01μm~200μm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的光通道阵列端面微纳结构的加工方法,其特征在于,所述光通道阵列为玻璃光纤...
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