一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置制造方法及图纸

技术编号:43103338 阅读:52 留言:0更新日期:2024-10-26 09:46
本技术公开了一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,其包括粗化电镀槽,其内设有阴极板、阳极板、阴极辊以及粗化电解液,阴极辊沉浸在粗化电解液中,阳极板和阴极板间隔布置,阴极板的表面安装有绝缘挡板,本技术通过在阴极板上增加绝缘挡板,可减少阴极板的导电面积,在通电电流相同的前提下,电流密度会加大,铜箔表面铜瘤的沉积速率会增快,形成的铜瘤形貌和色泽度均比较均匀,进而使得反转铜箔的表面不会存在色差异常,也不会有气孔,另外适当的加大电流密度,也不会很大的影响到铜箔处理面粗糙度,还是在可接受参数范围之内,相当于在不影响铜箔处理面粗糙度的前提下,更好的提高了低粗糙度反转铜箔生产的良品率,实用性强。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电解铜箔,尤其是涉及一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置


技术介绍

1、随着5g时代的到来,信号传输高频化的发展(信号波长越来越短),移动终端pcb采用的介质层厚度(≤1/8的波长)也越来越薄,为了保持带状线阻抗值稳定以及减小侧蚀误差,减小铜箔厚度是改进的主要方向,另外,信号的高频化使信号传输越来越集中于导线″表面层″内,信号传输频率越快,导线″表面层″传输信号的厚度就越薄(趋肤效应),这就对铜箔的表面粗糙度提出了较高要求(越低越好)。

2、电镀均匀性一直以来为业内生产难题,尤其是随着高频高速的发展,为降低″趋肤效应″带来的影响,铜箔企业会对高频高速用铜箔做特殊的表面处理,比如常见的超低轮廓铜箔及反转铜箔等,这两种处理技术会使铜箔处理面粗糙度rz降到1-2μm左右。其中,在反转铜箔的技术中,部分特殊的表面处理工艺对电镀时的电流控制有一定要求,为了降低铜箔表面粗糙度,通常在选择在粗固化工艺中降低电流,来满足粗糙度的要求。

3、然而,当电流降低时,电流密度也会相应的降低,电流密度过小会导致铜箔表面铜瘤的沉积速率较慢,进本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,包括粗化电镀槽,所述粗化电镀槽内设有阴极板、阳极板、阴极辊以及粗化电解液,其中,所述阴极辊沉浸在粗化电解液中,用于配合位于粗化电镀槽外部的入槽辊和上导辊完成对铜箔的导料,所述阳极板和所述阴极板间隔布置,其特征在于,所述阴极板的表面安装有绝缘挡板,所述绝缘挡板用于挡住部分所述阴极板的导电面积。

2.根据权利要求1所述的一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,其特征在于,所述绝缘挡板沿所述阴极板的长度方向延伸。

3.根据权利要求1-2任一项所述的一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,其特征在于,所述绝缘挡板包绕...

【技术特征摘要】

1.一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,包括粗化电镀槽,所述粗化电镀槽内设有阴极板、阳极板、阴极辊以及粗化电解液,其中,所述阴极辊沉浸在粗化电解液中,用于配合位于粗化电镀槽外部的入槽辊和上导辊完成对铜箔的导料,所述阳极板和所述阴极板间隔布置,其特征在于,所述阴极板的表面安装有绝缘挡板,所述绝缘挡板用于挡住部分所述阴极板的导电面积。

2.根据权利要求1所述的一种改善低粗糙度反转铜箔电镀色差的电镀装置,其特征在于,所述绝缘挡板...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐千惠龙小红姚文琴
申请(专利权)人:浙江花园新能源股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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