光学器件及其制造方法技术

技术编号:43102666 阅读:24 留言:0更新日期:2024-10-26 09:46
本文的实施例提出了光学器件及其制造方法。在实施例中,提供了光学器件,该光学器件包括:第一衬底,该第一衬底包括光学器件层和半导体管芯;第一波导结构,位于第一衬底上方,第一波导结构包括由包层材料围绕的第一光学组件,其中第一波导结构具有顶面,该顶面包括与第一衬底相距第一距离的第一部分、与第一衬底相距第二距离的第二部分以及位于第一部分和第二部分之间的过渡部分,其中第二距离大于第一距离;以及第一反射结构,位于第一部分和过渡部分上方,其中过渡部分上方的第一反射结构的部分是弯曲表面。

【技术实现步骤摘要】

本公开的实施例涉及光学器件及其制造方法


技术介绍

1、电信号传导和处理是用于信号传输和处理的一种技术。近年来,光学信号传导和处理已经在越来越多的应用中使用,特别是由于将光纤相关应用用于信号传输。

2、光学信号传导和处理通常与电信号传导和处理相结合,以提供全面的应用。例如,光纤可以用于远程信号传输,并且电信号可以用于短程信号传输以及处理和控制。因此,形成了集成远程光学组件和短程电子组件的器件,用于光学信号和电信号之间的转换以及光学信号和电信号的处理。因此,封装件可以包括光学(光子)管芯(包括光学器件)和电子管芯(包括电子器件),并且期望改进。


技术实现思路

1、本公开的实施例提供了一种制造光学器件的方法,包括:在第一衬底上方形成第一波导层,其中,形成所述第一波导层包括将第一波导组件嵌入绝缘层中;蚀刻所述第一波导层的顶面,其中,蚀刻所述第一波导层的所述顶面形成所述顶面的第一部分和所述顶面的过渡部分,所述顶面的所述第一部分位于所述顶面的第二部分下方,所述顶面的所述过渡部分介于所述第一部分与所述第二部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制造光学器件的方法,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,蚀刻所述第一波导层的所述顶面将所述过渡部分形成为弯曲形状。

3.根据权利要求1所述的方法,还包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一反射结构形成直接位于所述第一波导组件上方的所述过渡部分。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一反射结构是分布式布拉格反射器。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一反射结构包括沉积金属。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一衬底包括半导体器件。

>8.一种光学器件,...

【技术特征摘要】

1.一种制造光学器件的方法,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,蚀刻所述第一波导层的所述顶面将所述过渡部分形成为弯曲形状。

3.根据权利要求1所述的方法,还包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一反射结构形成直接位于所述第一波导组件上方的所述过渡部分。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:翁佳宁周佑铭梁世纬吴念芳吴俊毅余振华
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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