图案化介质母图案和磁介质盘及其形成方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种形成图案化介质母图案和磁介质盘的方法。该方法包括：使用电子束光刻形成盘上的同心环的化学对比度图案，其中所述同心环的间距等于目标道节距的整数倍，所述环包括在伺服扇区头部内的区域，该处所述环径向偏移一部分道节距；进行自组装以在化学对比度图案上以目标道节距形成新的环图案，包括在所述伺服扇区头部中的径向偏移；以及将所述新的环图案转移到磁介质盘以形成所述磁介质盘上的数据道，所述数据道通过非磁槽分隔开，所述非磁槽和所述数据道包括径向偏移区。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总地涉及离散道介质(discrete track media)的母图案 (masterpattern)，更特别地，涉及形成高质量的离散道介质母图案，该母图案包括支持伺 服图案的特征(feature)。
技术介绍
纳米压印已发展成为提供通向下一代光刻构图介质例如离散道介质(匿T)的路 径的高级技术。纳米压印的特征例如柱(pillar)、凹坑(pit)和道(track)的直径和/或 宽度在约10nm左右。将这些纳米级特征从模板(template)、模具(mold)或压模(stamper) 转移到衬底的能力已得到证实。母模通常用于产生模板，模板又用于大量压印产品以避免 任何压印事故对珍贵母模的损坏。此外，纳米压印在高生产能力和低制造成本方面的潜力 会引起当前光学光刻技术方面的思维转变。 如这里所论述的那样，离散道介质(DTM)例如位图案化介质(BPM)的制造可通过 若干技术来实现。例如，一种制造方法包括(l)在母模板上产生母图案，(2)通过UV固化 纳米压印来大量复制母图案，以及(3)将纳米压印的图案蚀刻转移到盘上的磁层。尽管该 技术是行得通的，但是仍期望一种用于形成用于盘驱动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成图案化介质的母图案和磁介质盘的方法，包括：ａ、使用电子束光刻形成盘上的同心环的化学对比度图案，其中所述同心环的间距等于目标道节距的整数倍，所述环包括在伺服扇区头部内的区域，该伺服扇区头部内的区域处所述环径向偏移一部分道节距；ｂ、进行自组装以在所述化学对比度图案上以目标道节距形成新的环图案，其包括在所述伺服扇区头部中的径向偏移；ｃ、将所述新的环图案转移到磁介质盘以形成所述磁介质盘上的数据道，所述数据道通过非磁槽分隔开，所述非磁槽和所述数据道包括径向偏移区。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯R阿尔布雷克特，布鲁诺马乔恩，里卡多鲁伊斯，
申请(专利权)人：日立环球储存科技荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]