一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法技术

本发明专利技术涉及一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法，属于电磁散射计算技术领域，解决了现有技术中不能直接提取散射阵列中目标阵元RCS的问题。所述目标阵元RCS提取方法包括：根据目标二维投影区域和目标阵元的最大尺寸确定探测源对应的虚拟口径面；在虚拟口径面上生成射线管，利用射线管模拟探测源对目标阵元的探测；在散射阵列内，对各射线管的射线进行路径追踪和场强追踪，直至满足预设的追踪终止条件；根据每个射线管的路径追踪结果，结合预设的有效性判断条件对每个射线管的有效性进行判断，从射线管中筛选得到有效射线管；根据有效射线管的场强追踪结果确定目标阵元RCS。实现了直接从散射阵列中提取目标阵元RCS。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电磁散射计算，尤其涉及一种用于散射阵列的目标阵元rcs提取方法。

技术介绍

1、雷达散射截面(radar cross section，rcs)是指一个物体对雷达探测波的反射能力，它是衡量物体在雷达上可见度的一个重要参数。rcs通常以平方米为单位，用来描述一个物体对雷达波的散射能力，即物体将入射的雷达波能量散射到各个方向的能力。

2、在对散射阵列进行分析时，不仅需要关注散射阵列整体的散射特性，还需要分析散射阵列中任意一个阵元对总体散射的贡献，即要求分析阵元之间的耦合情况，以设计满足散射特性的散射阵列。传统的电磁散射计算或商业软件在分析目标阵元的散射特性时，仅可分析散射阵列的散射，如果使用阵元进行单独仿真，则无法分析阵元在散射阵列中的耦合情况。

3、因此，亟需一种能够从散射阵列中提取目标阵元rcs的技术方案。

技术实现思路

1、鉴于上述的分析，本专利技术实施例旨在提供一种用于散射阵列的目标阵元rcs提取方法，用以解决现有技术中不能直接提取散射阵列中目标阵元rcs的问题。...

【技术保护点】

1.一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法，其特征在于，所述目标阵元RCS提取方法包括：

2.根据权利要求1所述的目标阵元RCS提取方法，其特征在于，所述根据探测源的入射方向和全局坐标系构建投影坐标系，包括：

3.根据权利要求2所述的目标阵元RCS提取方法，其特征在于，所述确定目标阵元在投影坐标系的目标二维投影区域，包括：

4.根据权利要求3所述的目标阵元RCS提取方法，其特征在于，所述根据目标二维投影区域和目标阵元的最大尺寸确定探测源对应的虚拟口径面，包括：

5.根据权利要求3所述的目标阵元RCS提取方法，其特征在于，所述在虚拟口径面上...

【技术特征摘要】

1.一种用于散射阵列的目标阵元rcs提取方法，其特征在于，所述目标阵元rcs提取方法包括：

2.根据权利要求1所述的目标阵元rcs提取方法，其特征在于，所述根据探测源的入射方向和全局坐标系构建投影坐标系，包括：

3.根据权利要求2所述的目标阵元rcs提取方法，其特征在于，所述确定目标阵元在投影坐标系的目标二维投影区域，包括：

4.根据权利要求3所述的目标阵元rcs提取方法，其特征在于，所述根据目标二维投影区域和目标阵元的最大尺寸确定探测源对应的虚拟口径面，包括：

5.根据权利要求3所述的目标阵元rcs提取方法，其特征在于，所述在虚拟口径面上生成射线管，包括：

6.根据权利要求5所述的目标阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：周华吉，王巍，徐乐，何瑶，陈仕川，楼财义，杨小牛，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第三十六研究所，
类型：发明
国别省市：