【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利
涉及印刷中的掩模层成像。本文献中的各种实施例涉及用于成像掩模层的方法、控制模块和用于成像掩模层的计算机程序，并且涉及用于成像和曝光凸版前体的方法和系统。
技术介绍
1、在用于成像掩模层的已知方法中，精细的高分辨率图案可以包括在图像文件中的半色调区域和/或实心区域中，以便在印刷网点的表面上生成纹理。这种图案通常叠加在原始图像文件上，并且可以由规则图案或不规则图案(例如棋盘图案或成像像素被八个非成像像素包围的图案等)构成。这种图案产生凸版结构(即印刷网点上的纹理)，并且旨在改善油墨转印，因此改善印刷质量。
2、然而，这些已知方法并不完全令人满意。一个问题可能是油墨密度。对应于实心和/或半色调区域的显影点可能不能够保持足够的油墨，使得印刷材料的油墨密度可能显得不足，即不够暗。另一个问题可能是所谓的“后缘空隙”。当显影实心点的边缘被不良涂墨时，出现后缘空隙。可能出现的第三个问题是当采样图案被应用在实心区域和/或半色调区域上时。采样图案可能干扰半色调区域中的半色调网点的现有图案。
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种用于成像掩模层(12)的方法，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一成像设置和所述第二成像设置使得与所述至少一个实心区域(20)的成像像素(24)对应的成像点(40)大于与所述至少一个半色调区域(22)的成像像素(26)对应的成像点(41)。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述至少一个半色调区域(22)中不添加采样图案。
4.根据权利要求1或2所述的方法，对于所述至少一个半色调区域中的具有低于预定值的色调值的半色调区域，在所述半色调区域中不添加采样图案，并且对于具有高于所述预定值的色调值的半色调...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于成像掩模层(12)的方法，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一成像设置和所述第二成像设置使得与所述至少一个实心区域(20)的成像像素(24)对应的成像点(40)大于与所述至少一个半色调区域(22)的成像像素(26)对应的成像点(41)。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述至少一个半色调区域(22)中不添加采样图案。
4.根据权利要求1或2所述的方法，对于所述至少一个半色调区域中的具有低于预定值的色调值的半色调区域，在所述半色调区域中不添加采样图案，并且对于具有高于所述预定值的色调值的半色调区域，在所述半色调区域中添加采样图案。
5.一种用于成像掩模层(12)的方法，包括步骤：
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一成像设置和所述第二成像设置使得与所述至少一个实心区域(20)的成像像素(24)对应的成像点(40)小于与所述半色调区域(22)的成像像素(26)对应的成像点(41)。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其中，对于所述至少一个半色调区域中的具有低于预定值的色调值的半色调区域，在所述半色调区域中不添加采样图案，并且对于具有高于所述预定值的色调值的半色调区域，在所述半色调区域中添加采样图案。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述采样图案(44)以及所述第一成像设置和所述第二成像设置被选择为使得在通过所述成像掩模层(12)曝光凸版前体(10)并且显影所述曝光的凸版前体(10)之后，在与所述至少一个实心区域(20)对应的实心凸起(36)上生成由谷围绕的山的第一表面结构，并且在与所述至少一个半色调区域(22)对应的多个半色调网点(38)上生成由谷围绕的山的第二表面结构。
9.一种用于成像掩模层(12)的方法，包括步骤：
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一色调值范围和所述第二色调值范围在10％以上，优选地在20％以上。
11.根据权利要求9或10所述的方法，其中，在所述成像之前或期间，将采样图案(44)叠加在所述第一半色调区域和/或所述第二半色调区域的像素(24)上，使得仅所述第一半色调区域和/或所述第二半色调区域(22)的所述像素(24)的一部分被成像。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，还包括检测所述图像文件中的实心区域，其中，在所述成像之前或期间，将采样图案(44)叠加在所述实心区域的像素(24)上，使得仅所述实心区域(20)的所述像素(24)的一部分被成像。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其中，所述第一成像设置和所述第二成像设置被选择为使得在通过所述成像掩模层(12)曝光凸版前体(10)并且显影所述曝光的凸版前体(10)之后，在与所述第一半色调区域对应的半色调网点(38)上生成由谷围绕的山的第一表面结构，并且在与所述第二半色调区域对应的半色调网点(38)上生成由谷围绕的山的第二表面结构。
14.根据权利要求1至7、11或12中任一项所述的方法，其中，所述采样图案(44)是其中一个或多个成像像素与一个或多个非成像像素组合的块的重复。
15.根据权利要求1至7、11或12或14中任一项所述的方法，其中，所述采样图案(44)是以下图案中的任何一者或其组合：单像素图案，例如单像素棋盘图案、各个成像像素被八个非成像像素围绕的图案；多像素图案，例如多像素棋盘图案；线图案；虚线图案；圆图案。
16.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述图像文件表示二维图像数据，其中，优选地，所述图像文件是每像素1位的文件或每像素具有多位的多级图像文件。
17.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一成像设置和所述第二成像设置定义以下参数中的任何一者或多者：
18.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述至少一个实心区域(20)中的实心区域对应于导致单个凸起的成像像素的隔离的集群，并且其中，所述至少一个半色调区域(22)中的半色调区域对应于彼此相距一定距离的导致多个类似尺寸的凸起网点的多个类似尺寸的成像像素集群。
19.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述检测步骤在光栅图像处理步骤期间完成，并且其中，可选地，生成仅包含所述至少一个实心区域(20)中的一个或多个实心区域的第一光栅图像文件，并且生成仅包含所述至少一个半色调区域(22)中的一个或多个半色调区域的第二光栅图像文件。
20.根据权利要求1至18中任一项所述的方法，其中，所述图像文件(18)是光栅图像文件，并且在所述图像文件(18)中进行检测的步骤在光栅图像处理步骤之后执行。
21.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述成像之前，生成修改的图像文件，所述修改的图像文件每像素具有至少两位，所述至少两位针对各个像素指示所述像素是否是以下像素中的一者：
2...
【专利技术属性】
技术研发人员：德克·卢多·朱利安·德劳，
申请(专利权)人：阿合斯印前有限公司，
类型：发明
国别省市：
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