一种显示面板bottom-ITO蚀刻液、其制备方法及应用技术

本发明专利技术提供一种显示面板bottom‑ITO蚀刻液、其制备方法及应用，所述显示面板bottom‑ITO蚀刻液包括重量配比如下的各组分：两种或两种以上有机羧酸的混合物2‑10份；含氨基的芳烃化合物1‑5份；含羧基的芳烃化合物0.5‑3份；添加剂1‑5份；超纯水30‑50份；添加剂为含有羟基的苯酚类化合物。本发明专利技术还公开了显示面板bottom‑ITO蚀刻液的制备方法。本发明专利技术显示面板bottom‑ITO蚀刻液能避免SnO<subgt;2</subgt;颗粒残留和Ag析出，对于ITO有稳定的刻蚀速率，对于绝缘层与光刻胶均无损伤，可在OLED像素电极制造过程中使用，尤其适用于ITO/Ag/ITO三步刻蚀中的bottom‑ITO层蚀刻。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及蚀刻液技术，尤其涉及一种显示面板bottom-ito蚀刻液、其制备方法及应用。

技术介绍

1、ito-ag-ito蚀刻液多应用于液晶显示器(tft-lcd)与有机发光二极管(oled)制造过程中像素电极的刻蚀。目前商用的ito-ag-ito蚀刻方法根据其工艺步骤可以分为一步蚀刻、二步蚀刻和三步蚀刻，其中：一步法：使用ito-ag-ito蚀刻液经过一个工艺步骤实现对于ito和ag叠层的刻蚀。二步法：第一步使用ito-ag蚀刻液完成top-ito与ag的蚀刻，第二步使用专用的ito蚀刻液完成bottom-ito的蚀刻及top-ito+ag层的形貌修饰。三步法：将蚀刻过程分为三步，上下两层ito使用ito蚀刻液刻蚀，中间层的ag(残留的极少部分ito)使用ag蚀刻液进行刻蚀。三层的蚀刻工艺能够分别调节，能够实现更为精细的形貌控制。

2、现有用于ito-ag-ito三步法的蚀刻液多为第一步在45℃下使用草酸蚀刻top-ito层，第二步在25℃下使用磷酸-硝酸体系蚀刻ag层，第三步在45℃下使用草酸蚀刻bottom-ito层。ito的成分为本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板bottom-ITO蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：

2.根据权利要求1所述显示面板bottom-ITO蚀刻液，其特征在于，所述有机羧酸为乙酸、柠檬酸、酒石酸、草酸、乙醇酸或三氯乙酸。

3.根据权利要求2所述显示面板bottom-ITO蚀刻液，其特征在于，所述有机羧酸为质量比为1-5：1-5的草酸和酒石酸的混合物。

4.根据权利要求1所述显示面板bottom-ITO蚀刻液，其特征在于，所述含氨基的芳烃化合物为1,3-二氨基异吲哚啉、N-乙基苯胺、3-氟苯胺、1-氨基芘和1-萘胺中的一种或多种。

<p>5.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板bottom-ito蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：

2.根据权利要求1所述显示面板bottom-ito蚀刻液，其特征在于，所述有机羧酸为乙酸、柠檬酸、酒石酸、草酸、乙醇酸或三氯乙酸。

3.根据权利要求2所述显示面板bottom-ito蚀刻液，其特征在于，所述有机羧酸为质量比为1-5：1-5的草酸和酒石酸的混合物。

4.根据权利要求1所述显示面板bottom-ito蚀刻液，其特征在于，所述含氨基的芳烃化合物为1,3-二氨基异吲哚啉、n-乙基苯胺、3-氟苯胺、1-氨基芘和1-萘胺中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述显示面板bottom-ito蚀刻液，其特征在于，所述含羧基的芳烃化合物为4-氨基-3-羟基苯甲酸、2-蒽甲酸、水杨酸、3-氟-4-甲基苯甲酸和3,4-...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯军，彭仁杰，滕越，邓璐瑶，
申请(专利权)人：浙江奥首材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：