一种PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及电磁线技术领域，且公开了一种PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺，该电磁线采用纳米二氧化硅超支化聚酯与聚醚醚酮(PEEK)混合复合作为绝缘材料,通过三层绝缘结构的设计,发挥两种材料的协同增效作用。制备过程依次涂覆三层绝缘:第一层和第三层为纳米二氧化硅超支化聚酯/PEEK混合层,第二层为纳米二氧化硅超支化聚酯层。实验表明,该复合绝缘电磁线具有优异的电绝缘性能和耐高温特性,击穿电压可达13kV以上,直流绝缘电阻高达210^16Ω,800摄氏度下质量剩余率在88.7‑91.7%,性能远超单一材料或简单组合绝缘。三个绝缘层形成紧密的分子联络网络,强化了绝缘效果和结构完整性。本发明专利技术开发的PEEK复合绝缘电磁线在高电压、高温等苛刻环境下具有卓越的绝缘可靠性和使用寿命,可广泛应用于航空航天、电力电子、新能源等高端领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电磁线，具体为一种peek复合绝缘电磁线的制备工艺。

技术介绍

1、聚醚醚酮(peek)是一种性能优异的热塑性工程塑料,具有高耐热性、优良的机械性能和易加工特性,在电磁线绝缘领域具有广阔的应用前景。然而,单一的peek绝缘层在高电压、高温等苛刻环境下的绝缘性能和可靠性仍有待提高。

2、目前,复合绝缘结构通常包括中间层和外绝缘层,但简单地将不同材料组合而成的绝缘层容易在层间形成界面,导致绝缘效果下降。此外,现有的绝缘材料在耐高温性能上也存在不足,在长期高温环境下易发生热分解和绝缘失效。

3、因此,亟需开发一种新型复合绝缘材料体系,通过合理的材料选择和结构设计,在保证优异绝缘性能的同时,兼顾高耐热性和良好的界面相容性,以满足日益苛刻的电磁线绝缘要求。本专利技术针对上述技术问题,提出了一种纳米二氧化硅超支化聚酯/peek复合多层绝缘结构,旨在从材料和工艺的角度,全面提升电磁线的绝缘性能和使用可靠性。

技术实现思路

1、（一）解决的技术问题

2、针对现有技术的不足，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述（1）中聚乳酸、丁二酸酐、辛酸亚锡催化剂的质量比为1.2-1.5：1：0.01-0.03。

3.根据权利要求1所述的PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的PEEK复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述（3）中CBz基2-氨基-1，3-丙二醇、羧基聚乳酸、丙烯酸改性硅烷偶联剂、二丁基二月桂酸锡的质量比为2.1-3.4：1：1.5-1.8：0.03-0.05。

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【技术特征摘要】

1.一种peek复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的peek复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述（1）中聚乳酸、丁二酸酐、辛酸亚锡催化剂的质量比为1.2-1.5：1：0.01-0.03。

3.根据权利要求1所述的peek复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的peek复合绝缘电磁线的制备工艺，其特征在于，所述（3）中cbz基2-氨基-1，3-丙二醇、羧基聚乳酸、丙烯酸改性硅烷偶联剂、二丁基二月桂酸锡的质量比为2.1-3.4：1：1.5-1.8：...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈红星，鲁德仓，孙耀猛，周朝洪，宋静，
申请(专利权)人：苏州宇盛电子有限公司，
类型：发明
国别省市：