一种卷对卷真空沉积设备及沉积方法技术

本发明专利技术公开了一种卷对卷真空沉积设备及沉积方法，涉及薄膜沉积技术领域。该卷对卷真空沉积设备包括收放卷室、沉积室、控制阀、抽真空装置、放卷机构及收卷机构；收放卷室与沉积室通过控制阀选择性连通，抽真空装置与沉积室连通；放卷机构与收卷机构均容置于收放卷室，放卷机构用于放卷柔性基底；收卷机构用于对放卷后穿过沉积室的柔性基底进行收卷；沉积室用于对穿过其内部的柔性基底进行薄膜沉积处理。本发明专利技术提供的卷对卷真空沉积设备能够降低生产成本并简化控制过程，还能够精确控制收放卷室与沉积室的压力关系。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜沉积，具体而言，涉及一种卷对卷真空沉积设备及沉积方法。

技术介绍

1、市面上存在部分卷对卷真空沉积设备，用于对柔性基底进行连续的表面薄膜沉积。

2、此类设备的收放卷室与沉积室分别配置有独立的真空系统，二者通过各自的真空系统独立调节真空度，导致生产成本过高，且控制过程繁琐复杂，难以精确把控收放卷室与沉积室的压力关系。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种卷对卷真空沉积设备，其能够降低生产成本并简化控制过程，还能够精确控制收放卷室与沉积室的压力关系。

2、本专利技术的另一目的在于提供一种卷对卷真空沉积方法，其能够降低生产成本并简化控制过程，还能够精确控制收放卷室与沉积室的压力关系。

3、本专利技术的实施例提供一种技术方案：

4、一种卷对卷真空沉积设备，包括收放卷室、沉积室、控制阀、抽真空装置、放卷机构及收卷机构；所述放卷机构容置于所述收放卷室，用于放卷柔性基底；所述收卷机构容置于所述收放卷室，用于对放卷后穿过所述沉积室的所述柔性基底进行收本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种卷对卷真空沉积设备，其特征在于，包括收放卷室(110)、沉积室(120)、控制阀(130)、抽真空装置(140)、放卷机构(150)及收卷机构(160)；

2.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述沉积室(120)至少部分容置于所述收放卷室(110)，所述柔性基底(10)由所述沉积室(120)容置于所述收放卷室(110)的部分进入并退出所述沉积室(120)。

3.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述沉积室(120)设置有两个狭缝模块(170)，所述柔性基底(10)由两个所述狭缝模块(170)的二者之一进入所述沉积室(1...

【技术特征摘要】

1.一种卷对卷真空沉积设备，其特征在于，包括收放卷室(110)、沉积室(120)、控制阀(130)、抽真空装置(140)、放卷机构(150)及收卷机构(160)；

2.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述沉积室(120)至少部分容置于所述收放卷室(110)，所述柔性基底(10)由所述沉积室(120)容置于所述收放卷室(110)的部分进入并退出所述沉积室(120)。

3.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述沉积室(120)设置有两个狭缝模块(170)，所述柔性基底(10)由两个所述狭缝模块(170)的二者之一进入所述沉积室(120)，并由二者中的剩余一个退出所述沉积室(120)。

4.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述卷对卷真空沉积设备(100)还包括预热模块(190)，所述预热模块(190)容置于所述收放卷室(110)，用于在所述柔性基底(10)进入所述沉积室(120)之前加热所述柔性基底(10)。

5.根据权利要求4所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述卷对卷真空沉积设备(100)还包括用于支撑所述柔性基底(10)的第一支撑辊(181)、第二支撑辊(182)及第三支撑辊(183)，所述第一支撑辊(181)、所述第二支撑辊(182)及所述第三支撑辊(183)依次排布于所述放卷机构(150)与所述收卷机构(160)之间；

6.根据权利要求1所述的卷对卷真空沉积设备，其特征在于，所述沉积室(120)内设置有ald系统(200)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：上海原力芯辰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：