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一种飞秒激光直写制备功能化自阵列微/纳孔表面的方法技术

技术编号:42953917 阅读:15 留言:0更新日期:2024-10-11 16:10
本发明专利技术属于超快激光加工技术领域,具体为一种飞秒激光直写制备功能化自阵列微/纳孔表面的方法。本发明专利技术使用飞秒激光直写技术,在金属玻璃、钨、铬等超硬合金或金属表面制备得到功能化自阵列微/纳孔,而不改变原材料的特征属性;自阵列微/纳米孔的孔洞近似于圆形,其直径大于所使用的激光波长,且在500 nm~6μm范围内可调,间距在1~5μm范围内可调,孔洞之间呈现出良好的周期性与规整性。本发明专利技术制备的自阵列微/纳米孔表面具有红外抗反射、自冷却散热、疏水、疏油等性能,具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超快激光加工,具体涉及在难加工金属或合金表面快速制备功能化自阵列微/纳米孔表面的方法。


技术介绍

1、超快激光微/纳米制造技术的蓬勃和多样化发展依赖于激光与物质相互作用过程中建立的相互耦合的多物理场和跨维度效应。在激光(尤其是具有非线性效应的超快激光)和物质之间的相互作用过程中,多物理耦合独特地实现了具有“自下而上”自组织特征的“自上而下”激光制造。典型的例子是具有环保、低成本、高效和易于跨维度大面积制造的激光诱导表面周期性结构,例如,激光诱导周期性表面结构(lipss)、超波长周期性表面组织(swpss)等。

2、然而,自组织效应通常不利于lipss或swpss的缺陷抑制和高可控性的实现,尤其是对于与热/流动力学过程显著相关的场景,如相变/分离、对流等。为了实现这些特殊场景下激光诱导微/纳米结构的高质量和均匀性,常用的一个重要原理是构建一对正/负反馈,通过直接利用激光与物质之间不同相互作用(两种相互抑制作用)实现对微纳结构的精准调控。它已应用于分辨率约为数十至数百纳米的“亚波长”方案(例如lipss)。然而,值得注意的是,远场激本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种飞秒激光直写制备功能化自阵列微/纳孔表面的方法,其特征在于,具体步骤为:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光波长为1030nm、515nm和/或343nm;1030nm的激光波长用于制造出孔径为3~6μm的自阵列微米孔,对应的光斑直径为25μm,偏移距离为10~12μm;515nm的激光波长用于制造出孔径为1~3μm的自阵列微米孔,对应的光斑直径为16μm,偏移距离为7~9μm;343nm的激光波长用于制造出孔径为500nm~1μm的自阵列微/纳米孔,对应的光斑直径为8μm,偏移距离为5~7μm。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,...

【技术特征摘要】

1.一种飞秒激光直写制备功能化自阵列微/纳孔表面的方法,其特征在于,具体步骤为:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光波长为1030nm、515nm和/或343nm;1030nm的激光波长用于制造出孔径为3~6μm的自阵列微米孔,对应的光斑直径为25μm,偏移距离为10~12μm;515nm的激光波长用于制造出孔径为1~3μm的自阵列微米孔,对应的光斑直径为16μm,偏移距离为7~9μm;343nm的激光波长用于...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙允陆黄瀚轩
申请(专利权)人:复旦大学
类型:发明
国别省市:

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