一种高辉度耐刮擦涂布反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于光学反射膜技术领域，涉及一种高辉度耐刮擦涂布反射膜及其制备方法。所述反射膜，依次包括UV胶层、反射基膜和涂布层，涂布层包括胶黏剂层和复合粒子，胶黏剂层粘结在反射基膜表面，复合粒子分布于胶黏剂层中；复合粒子包括PU粒子和PMMA包覆TiO<subgt;2</subgt;粒子；聚氨酯粒子的平均粒径为10~30μm，聚甲基丙烯酸甲酯包覆TiO<subgt;2</subgt;粒子的平均粒径为1~8μm；聚氨酯粒子和聚甲基丙烯酸甲酯包覆TiO<subgt;2</subgt;粒子的质量比为1:70~120。本发明专利技术提供的反射膜具有高辉度和优异的耐刮擦、抗顶白性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学反射膜，涉及一种高辉度耐刮擦涂布反射膜及其制备方法。

技术介绍

1、背光模组作为显示器的关键组件之一，包含多种光学薄膜，如扩散膜、增光膜和反射膜等。这些组件共同作用，以确保背光模组能够均匀、高效地提供光源，从而提升显示效果。背光模组根据光源的位置可大体分为侧入式和直下式两种类型。在侧入式背光模组中，导光板将点光源转换成面光源，而反射膜位于导光板的背面，用于提高光线利用率、减少光损失，并确保背光更加均匀。

2、反射膜在未经涂布的情况下会出现吸附问题导致暗影等外观缺陷，故一般做涂布处理；然而，涂布粒子的选择对于反射膜的性能至关重要。如果涂布粒子过硬，它们在背光模组装配过程中可能会刮伤导光板，使得在点亮背光模组后会出现线状划伤等缺陷；若涂布的粒子过软，背光模组也会在运输过程中因为局部压力过大，在点亮后出现顶白缺陷。涂布粒子一般为高分子材料，这类材料在溶剂中会发生溶胀现象：由于溶剂分子与高分子尺寸相差过大，分子运动速度相差大，溶剂分子扩散速度快于高分子向溶剂扩散速度，溶剂分子会渗透进高分子材料内部，使其体积增大。体积增大的粒子容易顶破本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，依次包括UV胶层、反射基膜和涂布层，所述涂布层包括胶黏剂层和复合粒子，所述胶黏剂层粘结在反射基膜表面，复合粒子分布于胶黏剂层中；

2.根据权利要求1所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，所述聚甲基丙烯酸甲酯包覆TiO2粒子的制备方法包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，酸溶液的pH为1~3；

4.根据权利要求1或2所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，所述TiO2粒子为中空TiO2粒子，所述聚甲基丙烯酸甲酯包覆TiO2粒子为聚甲基丙烯酸甲酯包覆中空Ti...

【技术特征摘要】

1.一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，依次包括uv胶层、反射基膜和涂布层，所述涂布层包括胶黏剂层和复合粒子，所述胶黏剂层粘结在反射基膜表面，复合粒子分布于胶黏剂层中；

2.根据权利要求1所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，所述聚甲基丙烯酸甲酯包覆tio2粒子的制备方法包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，酸溶液的ph为1~3；

4.根据权利要求1或2所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，所述tio2粒子为中空tio2粒子，所述聚甲基丙烯酸甲酯包覆tio2粒子为聚甲基丙烯酸甲酯包覆中空tio2粒子。

5.根据权利要求1所述的一种高辉度耐刮擦涂布反射膜，其特征在于，涂布层由涂布液制备而成，所述涂布液包括：20~40份胶黏剂、10~3...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱逸枫，陈哲，陈佳萍，邓飞，陈小东，
申请(专利权)人：宁波长阳科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：