【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及补水清洗，具体涉及一种基于在线水质监测的纯水供应补给系统及方法。
技术介绍
1、随着电子、半导体及精密机械行业的飞速发展，特别是在芯片、集成电路、半导体器件、光电器件等高端制造领域，对生产过程中的水质要求达到了前所未有的高度。这些精密产品的制造过程中，涉及大量的清洗步骤，以确保产品表面的洁净度与纯度，从而避免任何微小的杂质对产品质量造成不可逆的影响。
2、当前，这些行业普遍采用纯水或者超纯水进行补水清洗，要求严格的其超纯水电阻率需达到18兆欧以上，以确保水的电导率极低，几乎不导电，同时要求水中几乎不含金属离子和有机物质，以避免对复杂芯片表面造成划痕或污染。然而，这一高标准的水质要求导致了生产过程中水资源的巨大消耗，增加了生产成本和环境负担。
3、传统的节水措施往往依赖于人工监控和手动调节，不仅效率低下，且难以实现精准控制，导致过量补水或补水不足的情况发生，因此，本申请提出一种基于在线水质监测的纯水供应补给系统及方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的...
【技术保护点】
1.一种基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，所述系统包括执行单元和控制单元；
2.根据权利要求1所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，所述自动控制单元的工作过程包括：
3.根据权利要求2所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，补水过程中，系统累计补水时间T3，当补水时间T3等于设置补水时间T1时停止补水，并累计停止补水时间T4，充分将新加入的清洗水混合均匀，补水间隔时间T4等于设置补水间隔时间T2后，若水质中电导率、总有机碳含量C、溶解氧含量O未低于对应设定的区间下限，系统继续运行，如此循环执行，直至水...
【技术特征摘要】
1.一种基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，所述系统包括执行单元和控制单元；
2.根据权利要求1所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，所述自动控制单元的工作过程包括：
3.根据权利要求2所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，补水过程中，系统累计补水时间t3，当补水时间t3等于设置补水时间t1时停止补水，并累计停止补水时间t4，充分将新加入的清洗水混合均匀，补水间隔时间t4等于设置补水间隔时间t2后，若水质中电导率、总有机碳含量c、溶解氧含量o未低于对应设定的区间下限，系统继续运行，如此循环执行，直至水质中电导率、总有机碳含量c、溶解氧含量o达标。
4.根据权利要求3所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，所述自动控制单元的工作过程还包括：
5.根据权利要求4所述的基于在线水质监测的纯水供应补给系统，其特征在于，补水过程中，系统累计补水时间t7，当补水时间t7等于设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：张友德，李志猛，周亮，龚炎华，施辉辉，
申请(专利权)人：安徽新宇环保科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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