基于光斑中心拟合的二维测向方法技术

本发明专利技术公开了一种基于光斑中心拟合的二维测向方法，所述方法包括：对二维平面阵采集的待测目标测向信号进行前端处理；设置扫描u值，将前端处理后的测向信号从角度域转换到u域，得到波束输出构成的离散方位谱矩阵；对离散方位谱矩阵进行归一化处理得到灰度光斑图；通过对称原则将灰度光斑图中的光斑进行合并；对合并后的灰度光斑图进行斑中心拟合，获得待测目标的方位，实现目标测向。本发明专利技术创新性地将光斑中心拟合方法移植至二维平面阵的测向中，本方法可广泛应用于各类对实时性要求高的声呐、雷达平台，不受平台频率、阵元个数的限制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及平面阵方位估计领域，尤其涉及基于光斑中心拟合的二维测向方法。

技术介绍

1、波束形成方位谱、music都是经典的方位估计算法，需要根据阵列数据的统计信息得到自相关矩阵，并在感兴趣的方位区间内进行密集地扫描，通过谱峰搜索来确认目标的方位。

2、在雷达和声呐系统中，这些高精度的方向估计方法难以实时应用。受限于平台的计算速度，在实际应用中广泛使用的仍然是传统波束成形方位谱。在所感兴趣的方位范围内，按照一定的步长进行扫描，得到一系列的波束输出，通过谱峰搜索得到目标方位。对于二维方位估计，当搜索步长减小，二维方位的搜索量呈二次方增长。通常情况下，由于平台的实时性要求，步长一般根据半波束宽度来设定。

3、注意到稀疏离散的空间采样的方位谱的二维图像与光斑图相似，都呈现中心模糊的形态如图1所示，并且具有共同的目标：搜索方位谱/光斑中心。光斑中心定位是光学测量中的关键技术之一。通常应用于航空航天、武器系统以及激光检测等。当前通常采用灰度重心法、椭圆中心二次拟合、高斯分布拟合进行光斑中心的计算。

4、类似的，为了搜索真实方位，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于光斑中心拟合的二维测向方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤1)的前端处理包括放大、自动增益控制AGC和FFT。

3.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤1)的二维平面阵为N*M元的均匀矩形阵，阵元间距为d，波长为λ。

4.根据权利要求3所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤2)具体包括：

5.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤4)具体包括：

6.根据权利要求5所述...

【技术特征摘要】

1.一种基于光斑中心拟合的二维测向方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤1)的前端处理包括放大、自动增益控制agc和fft。

3.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤1)的二维平面阵为n*m元的均匀矩形阵，阵元间距为d，波长为λ。

4.根据权利要求3所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤2)具体包括：

5.根据权利要求1所述的基于光斑中心拟合的二维测向方法，其特征在于，所述步骤4)具体包括：

6....

【专利技术属性】
技术研发人员：李璇，郝程鹏，徐达，
申请(专利权)人：中国科学院声学研究所，
类型：发明
国别省市：