一种球磨罐、球磨设备及其应用制造技术

技术编号:42869010 阅读:21 留言:0更新日期:2024-09-27 17:30
本发明专利技术涉及粉体加工技术领域,公开了一种球磨罐、球磨设备及其应用。一种球磨罐,包括A、B、C三种结构类型通道;所述A、B或C通道的两端分别设有进料口和出料口;所述装置中央设有一条所述A通道;所述B通道围绕所述球磨罐中央的所述A通道设置;所述C通道与所述球磨罐内壁连接;所述A通道沿轴向交替设有垂直高度较高的高抛区,以及垂直高度较低的低抛区;所述B通道沿轴向交替设有垂直高度较低的低抛区,以及垂直高度较高的高抛区;所述C通道沿轴向交替设有由所述低抛区与所述球磨罐内壁形成的高夹设区,以及由所述高抛区与所述球磨罐内壁形成的低夹设区;所述高抛区与低抛区的垂直高度之比为(1.33‑2):1。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及粉体加工,特别涉及一种球磨罐、球磨设备及其应用


技术介绍

1、陶瓷基板因其具有耐高温、电绝缘性能高、介质损耗低、化学稳定性好以及加工性能好等优点,被广泛应用于电子信息行业中的集成电路封装、led照明、散热基板等领域。

2、为了更好地实现陶瓷基板在上述领域中的应用,获得机械强度更佳的陶瓷基板,需要对其制备原料粉体进行改性或加工,以提升陶瓷粉体的分散性、粒度集中性及均一性。现有技术通常使用球磨机对陶瓷粉体进行破碎研磨处理,通过研磨介质与粉体物料混合后在离心力与重力的作用下碰撞摩擦,完成破碎过程并细化粒径。

3、然而,在实际改性或加工粉体的过程中,球磨效率受粉体的粉碎比(粉碎前后的粒径比值)及粉体类别的影响较大,现有球磨方式只能针对单一的、粉碎比大的粉体进行研磨,球磨机简单有限的内部形状及研磨结构无法实现多种不同粒径的粉体的同时研磨细化,且持续工作时随着粉体的加入使得搅拌混合效率降低,特别针对复合粉体(如氧化锆增韧氧化铝粉体,zta)而言,整体研磨效率与研磨质量较差,难以获得高纯度、高分散性、粒度均一性的超细陶瓷粉体。...

【技术保护点】

1.一种球磨罐,其特征在于,包括A、B、C三种结构类型通道;

2.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述B通道与所述A通道围绕设于所述球磨罐中央的所述A通道交替设置。

3.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述球磨罐的水平轴向长度与垂直高度之比为(0.49-1.62):1。

4.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述A通道、B通道和C通道的数量比为(1+2N):2(N+1):2,其中,N为大于等于0的整数。

5.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述球磨罐的水平轴向长度与所述高抛区的水平轴向长度之和之比为(1.33-...

【技术特征摘要】

1.一种球磨罐,其特征在于,包括a、b、c三种结构类型通道;

2.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述b通道与所述a通道围绕设于所述球磨罐中央的所述a通道交替设置。

3.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述球磨罐的水平轴向长度与垂直高度之比为(0.49-1.62):1。

4.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述a通道、b通道和c通道的数量比为(1+2n):2(n+1):2,其中,n为大于等于0的整数。

5.根据权利要求1所述的球磨罐,其特征在于,所述球磨罐的水平轴向长度与所述高抛区的水平轴向长度之和之比为(1.33-2):1。

6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:马艳红梁明川
申请(专利权)人:南充三环电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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