超材料用基材、超材料及层叠体制造技术

一种超材料用基材、以及具备上述超材料用基材的超材料及层叠体，上述超材料用基材的玻璃化转变温度为160℃以上且至少一个面的表面粗糙度Ra为300nm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种超材料用基材、超材料及层叠体。

技术介绍

1、近年来，正在研究将具备基材及由导电性材料等构成且设置于基材表面的图案的超材料适用于频率0.1thz～10thz(波长为30μm～3000μm)的电磁波(以下，还记载为太赫兹频段的电磁波。)用光学元件。

2、例如，在日本特开2021-114647号公报中，公开了一种超材料，其具备超表面基材及设置于超表面基材表面的金属膜的图案。

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术课题

2、超材料所具备的上述图案对太赫兹频频段的电磁波发挥谐振器的作用。对太赫兹频段的电磁波发挥谐振器的作用的部分止于从图案的表面到0.5μm左右的部分，因此，在今后的开发中，从降低成本等观点出发，可预想到要减小图案的厚度。

3、厚度小的图案通过溅射法、蒸镀法等方法形成于基材表面的可能性高，根据基材表面的平滑性，图案表面的平滑性会降低。

4、图案表面的平滑性降低会导致电流所流动的路径实质上变长，因此，可能产生的传输损耗趋于增加。尤其，太赫兹本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超材料用基材，其玻璃化转变温度为160℃以上且至少一个面的表面粗糙度Ra为300nm以下。

2.据权利要求1所述的超材料用基材，其介电损耗角正切为0.01以下。

3.根据权利要求1或2所述的超材料用基材，其含有选自氟系聚合物及液晶聚合物中的至少1种。

4.一种超材料，其具备权利要求1至3中任一项所述的超材料用基材、以及所述超材料用基材的表面粗糙度Ra为300nm以下的面上的图案，且

5.根据权利要求4所述的超材料，其中，

6.根据权利要求4或5所述的超材料，其中，

7.根据权利要求4至6中任一项所述的超材料，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种超材料用基材，其玻璃化转变温度为160℃以上且至少一个面的表面粗糙度ra为300nm以下。

2.据权利要求1所述的超材料用基材，其介电损耗角正切为0.01以下。

3.根据权利要求1或2所述的超材料用基材，其含有选自氟系聚合物及液晶聚合物中的至少1种。

4.一种超材料，其具备权利要求1至3中任一项所述的超材料用基材、以及所述超材料用基材的表面粗糙度ra为300nm以下的...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐田泰行，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：