【技术实现步骤摘要】
本申请涉及发光显示，特别涉及一种光学膜片及其制备设备和方法、波导模组和显示系统。
技术介绍
1、增强现实是一种实时采集现实世界信息，并将虚拟信息、图像等与现实世界相结合的显示技术。增强现实设备中采用的微型光机是用于生成图像光束的器件，lcos(硅基液晶)和dmd(数码微镜装置)的微投影系统是非主动发光芯片投影方案中的主流。对于非主动发光芯片，可以利用照明波导将光源发出的光束按照预设的路径均匀照射在lcos、dmd芯片表面，从而生成高质量的投影图像。
2、典型照明波导应当包括耦入区、波导和耦出区。目前主流的波导耦入耦出方案包括阵列光波导、表面浮雕光栅和体全息光栅。体全息光栅的制备是通过全息技术中的干涉曝光来实现的。干涉曝光对于光束间的角度匹配有一定的要求，经由不同批次的干涉曝光得到的体全息光栅很难保证参考光和信号光的角度匹配。因此通过传统的干涉曝光方式来实现用于增强现实设备中的体全息光栅的量产具有极大的挑战性。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种光学膜片及其制备设备和方法、波...
【技术保护点】
1.一种光学膜片的制备设备，其特征在于，所述制备设备用于对待加工基材进行干涉曝光以获取光学膜片，所述制备设备包括：
2.如权利要求1所述的制备设备，其特征在于，所述光波导还包括具有预设周期的耦入光栅，所述耦入光栅用于接收所述光源产生的入射光，并将所述入射光分离为具有第一衍射级次的第一光束以及具有第二衍射级次的第二光束，所述第一光束与所述第二光束自所述光波导射入所述待加工基材，并在所述待加工基材的与所述耦入光栅相对应的所述待加工区域上发生干涉，以在所述待加工区域形成全息光学结构。
3.如权利要求2所述的制备设备，其特征在于，所述光波导还包括具有预...
【技术特征摘要】
1.一种光学膜片的制备设备，其特征在于，所述制备设备用于对待加工基材进行干涉曝光以获取光学膜片，所述制备设备包括：
2.如权利要求1所述的制备设备，其特征在于，所述光波导还包括具有预设周期的耦入光栅，所述耦入光栅用于接收所述光源产生的入射光，并将所述入射光分离为具有第一衍射级次的第一光束以及具有第二衍射级次的第二光束，所述第一光束与所述第二光束自所述光波导射入所述待加工基材，并在所述待加工基材的与所述耦入光栅相对应的所述待加工区域上发生干涉，以在所述待加工区域形成全息光学结构。
3.如权利要求2所述的制备设备，其特征在于，所述光波导还包括具有预设周期的耦出光栅，所述耦入光栅和所述耦出光栅沿所述光波导的光传播方向间隔设置，所述耦入光栅的预设周期与所述耦出光栅的预设周期相同或者不同；所述第一光束在所述待加工基材上发生干涉后、沿所述光传播方向传播至所述耦出光栅并产生第三光束和第四光束，所述第三光束具有第三衍射级次，所述第四光束具有第四衍射级次；所述第三光束与所述第四光束自所述光波导射入所述待加工基材，并在所述待加工基材的与所述耦出光栅相对应的所述待加工区域上发生干涉，以在所述待加工区域形成全息光学结构。
4.如权利要求3所述的制备设备，其特征在于，所述耦出光栅的数量设置有多个，多个所述耦出光栅沿所述光传播方向依次排布，多个所述耦出光栅的预设周期彼此相同或者不同，所述耦出光栅用于将沿所述光传播方向传播过来的光线分离成两束干涉光，以在所述待加工基材的与其对应的所述待加工区域发生干涉以形成全息光学结构。
5.如权利要求1所述的制备设备，其特征在于，所述光波导包括耦入棱镜，所述光源包括第一子光源和第二子光源，所述第一子光源和所述第二子光源分别位于所述光波导的相背两侧，所述第一子光源和所述耦入棱镜相对；所述耦入棱镜用于接收所述第一子光源发出的光形成所述第一光束，所述第二子光源向所述待加工基材发出光线，在所述待加工基材形成所述第二光束，所述第一光束自所述光波导射入所述待加工基材，和所述第二光束在所述待加工基材的与所述耦入棱镜相对应的待加工区域上发生干涉，以在所述待加工区域形成全息光学结构。
6.如权利要求5所述的制备设备，其特征在于，所述第一子光源和所述第二子光源均为白光光源。
7.如权利要求1所述的制备设备，其特征在于，所述光波导包括波导本体和反射件，所述反射件设置于所述波导本体，所述反射件的反射面朝向所述波导本体的内部，所述光源发出的光束被所述反射件反射后经由所述光波导传播至所述待加工基材，所述光源发出的光束还用于照射至所述待加工基...
【专利技术属性】
技术研发人员：严子深，刘志浩，赵鹏，李屹，
申请(专利权)人：深圳光峰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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