一种涂胶显影机Bake排气控制装置制造方法及图纸

本技术涉及涂胶显影领域，尤其涉及一种涂胶显影机Bake排气控制装置。包括设置于排气管内壁且与排气管内壁相匹配的阀板，以及带动所述阀板转动的转轴；所述转轴穿出排气管外壁，并与驱动所述转轴转动的旋转气缸连接。本技术通过优化整体排气控制装置的密封性、管道气流流通性和机构作动摩擦阻力，从而达到减少排气挡板作动异常宕机。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及涂胶显影领域，尤其涉及一种涂胶显影机bake排气控制装置。

技术介绍

1、光刻工艺过程是一种多步骤图形转移过程。光刻过程把光罩(mask)上的图形转到晶圆(wafer)上，由涂胶显影机(track)和光刻机(scanner)共同完成，是芯片制造过程中最重要的工序之一。

2、涂布显影机的基本流程：涂底胶(hmds)→冷板(cooling plate)→涂光刻胶旋涂(spin cot)→软烘烤(softbake orpab)→冷板(cooling plate)→曝光(exposure)→曝光后烘烤(post exposure bake)→冷板(cooling plate)→显影(developer)→硬烘烤(hardbake)→冷板(cooling plate)。

3、基板在涂胶显影机bake单元时，chamber内的基板受高温烘烤，表面光阻产生挥发，需由排气管道排出。现行的bake排气控制装置，包括伸缩式气缸1’、挡板2’和挡板槽3’，如图1、图2所示。挡板槽3’架设于排气管100上，且中心开设有与排气管100管口相同大小的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种涂胶显影机Bake排气控制装置，其特征在于：包括设置于排气管内壁且与排气管内壁相匹配的阀板，以及带动所述阀板转动的转轴；所述转轴穿出排气管外壁，并与驱动所述转轴转动的旋转气缸连接。

2.如权利要求1所述的涂胶显影机Bake排气控制装置，其特征在于：所述旋转气缸上设有可调节旋转角度的调节机构。

3.如权利要求1所述的涂胶显影机Bake排气控制装置，其特征在于：所述旋转气缸通过连接块连接所述转轴。

4.如权利要求3所述的涂胶显影机Bake排气控制装置，其特征在于：所述连接块上设有标签。

5.如权利要求3所述的涂胶显影机Bake排气控制装...

【技术特征摘要】

1.一种涂胶显影机bake排气控制装置，其特征在于：包括设置于排气管内壁且与排气管内壁相匹配的阀板，以及带动所述阀板转动的转轴；所述转轴穿出排气管外壁，并与驱动所述转轴转动的旋转气缸连接。

2.如权利要求1所述的涂胶显影机bake排气控制装置，其特征在于：所述旋转气缸上设有可调节旋转角度的调节机构。

3.如权利要求1所述的涂胶显影机bake排气控制装置，其特征在于：所述旋转气缸通过连接块连接所述转轴。

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【专利技术属性】
技术研发人员：李新涵，邵慧才，李坤杰，张简文助，纪绍麒，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：