通过改变畸变程度调节Mott-Hubbard体系(MA)2CuX4非线性光学性能的方法技术

本发明专利技术涉及一种通过改变畸变程度调节Mott‑Hubbard体系(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;非线性光学性能的方法，先通过溶剂热法合成毫米级别的晶体(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;，再通过机械剥离的方法制备成薄膜材料，其中，(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;中的X为卤素，通过改变溶剂热法合成过程中所用反应溶剂的种类与比例，调节晶体(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;中的卤素阴离子的组分，从而改变晶体(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;的畸变程度，进而增强非线性光学性能。本发明专利技术将(MA)<subgt;2</subgt;CuX<subgt;4</subgt;确立为一类新的、有前景的非线性光学材料，为高性能非线性吸收材料的结构设计和探索提供了新的见解。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于非线性光学，涉及一种通过改变畸变程度调节mott-hubbard体系(ma)2cux4非线性光学性能的方法。

技术介绍

1、三阶非线性光学材料因其在光学开关，光学限制，亚带隙红外检测，光学通信，数据存储，光学逻辑门，图像传输和锁模激光系统中的潜在应用而备受关注。其中提高非线性光学材料的性能具有重要意义。(ma)2cux4作为一种具有独特mott-hubbard能级结构的材料，具有优异的热稳定性和较低的毒性以及相对容易的合成而被广泛关注。但是，目前几乎没有关于(ma)2cux4薄膜的非线性光学性能研究，因此，需要对其进行研究

2、到目前为止，已经合成多种用于三阶非线性光学应用的非线性光学材料，例如二维纳米材料、过渡金属硫属化合物、卤素钙钛矿、金属有机框架或者共轭有机分子(卟啉和酞菁)或聚合物，金属-氧代簇等。改善非线性光学材料的性能具有重要意义。到目前为止，提高非线性光学材料响应的方法包括：(1)使用不同元素掺杂；(2)缺陷调制；(3)纳米材料尺寸和形貌调控；(4)构建异质结构的复合材料等。不同的方法利用不同工艺，有的实验操作复杂，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种通过改变畸变程度调节Mott-Hubbard体系(MA)2CuX4非线性光学性能的方法，其特征在于，先通过溶剂热法合成毫米级别的晶体(MA)2CuX4，再通过机械剥离的方法制备成薄膜材料，其中，(MA)2CuX4中的X为卤素，通过改变溶剂热法合成过程中所用反应溶剂的种类与比例，调节晶体(MA)2CuX4中的卤素阴离子的组分，从而改变(MA)2CuX4晶体的畸变程度，进而调节(MA)2CuX4晶体的非线性光学性能。

2.根据权利要求1所述的一种通过改变畸变程度调节Mott-Hubbard体系(MA)2CuX4非线性光学性能的方法，其特征在于，溶剂热法中所用的反应溶剂为盐...

【技术特征摘要】

1.一种通过改变畸变程度调节mott-hubbard体系(ma)2cux4非线性光学性能的方法，其特征在于，先通过溶剂热法合成毫米级别的晶体(ma)2cux4，再通过机械剥离的方法制备成薄膜材料，其中，(ma)2cux4中的x为卤素，通过改变溶剂热法合成过程中所用反应溶剂的种类与比例，调节晶体(ma)2cux4中的卤素阴离子的组分，从而改变(ma)2cux4晶体的畸变程度，进而调节(ma)2cux4晶体的非线性光学性能。

2.根据权利要求1所述的一种通过改变畸变程度调节mott-hubbard体系(ma)2cux4非线性光学性能的方法，其特征在于，溶剂热法中所用的反应溶剂为盐酸与溴化氢中的一种或两种的混合。

3.根据权利要求1所述的一种通过改变畸变程度调节mott-hubbard体系(ma)2cux4非线性光学性能的方法，其特征在于，溶剂热法合成过程具体为：

4.根据权利要求3所述的一种通过改变畸变程度调节mott-hubbard体系(ma)2cux4非线性光学性能的方法，其特征在于，cucl2与hx的添加量之比为1mmol：5ml，所用盐酸和氢溴酸浓度为市售饱和溶液浓度，其中盐酸浓度为36％-38％，溴化氢浓度为40％-48％。

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智鹏，李冰悦，张弛，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：