显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括至少一用于设置相机模组的开孔区域，所述制备方法包括步骤：提供一阵列衬底；于阵列衬底上制备数据线层；于数据线层上制备钝化层；对钝化层和数据线层进行蚀刻，形成至少一依次贯穿所述钝化层和所述数据线层且环绕所述开孔区域的沟道；以及对所述沟道内的所述数据线层进行侧向蚀刻，使所述数据线层的侧壁形成至少一底切结构；本发明专利技术通过在数据线层的上方铺设钝化层，利用钝化层的表面张力减小数据线层中上阻挡层金属的下弯程度，避免下弯程度偏大导致数据线层中底切结构的内缩深度变小，进而导致底切结构的水氧阻隔功能失效的问题，利于提升显示产品的可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示，具体地说，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

1、随着显示技术的发展，越来越多的显示面板和显示装置被应用于人们的日常生活和工作中。为了提高用户体验，现有的显示面板结构中通常集成传感器模块，例如摄像头、红外感测器等。

2、目前，为了提高屏占比，通常需要在显示屏上开设盲孔，也即形成挖孔屏。上述挖孔屏即包括显示区和非显示区。显示区用于实现显示功能，非显示区(主要指盲孔开设区域)即用于布设摄像头等组件。对于挖孔屏，其盲孔开设区域的边缘通常设有slit区，以隔断阴极，从而避免显示区的发光材料受到来自slit区内被水氧入侵的阴极的影响。

3、slit区内的膜层结构通常包括有像素阵列衬底和数据线层。其中，数据线层需要在侧向进行蚀刻，形成undercut底切结构，以阻断阴极，实现侧向阻隔水氧的效果。数据线层包括互连金属、位于互连金属上方的上阻挡层金属、以及位于互连金属下方的下阻挡层金属。在对数据线层的互连金属侧向蚀刻，使其形成内缩结构后，上阻挡层金属可能产生下弯现象，若下弯程度偏大，将直接导致底切结构的内缩深度变本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括至少一用于设置相机模组的开孔区域，所述制备方法包括步骤：

2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S140包括：

3.如权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述数据线层包括互连金属、位于所述互连金属背离所述阵列衬底一侧的上阻挡层金属、以及位于所述互连金属靠近所述阵列衬底一侧的下阻挡层金属；步骤S140包括：

4.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S150包括：

5.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤S150中，侧向蚀...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括至少一用于设置相机模组的开孔区域，所述制备方法包括步骤：

2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤s140包括：

3.如权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述数据线层包括互连金属、位于所述互连金属背离所述阵列衬底一侧的上阻挡层金属、以及位于所述互连金属靠近所述阵列衬底一侧的下阻挡层金属；步骤s140包括：

4.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤s150包括：

5.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，步骤s150中，侧向蚀刻完成后，相邻两所述互连金属之间的间距大于相邻两所述钝化层之间的间距。

6.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈叶萍，王先叶，彭思君，李喜全，
申请(专利权)人：上海和辉光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：