一种基底层的制备方法、基底层及应变片技术

本申请涉及一种基底层的制备方法、基底层及应变片。聚酰亚胺酸溶液涂布于聚酰亚胺薄膜上形成聚酰亚胺胶层。聚酰亚胺胶层具有粘黏性，在与敏感栅复合时粘结的更牢固。芳香二胺和芳香二酐混合形成的聚酰亚胺胶层具备高模量，在受力时不易发生较大的变形和尺寸改变，具有较高的抗变形和弯曲能力，使得应变片整体系统比较稳定，减少应变片在受力过程中的损耗，使得应变片灵敏度更高。同时，芳香二胺和芳香二酐为原料制备的基底层具备优良的耐温性，可满足应变片在高温环境中的温度要求，便于实现自动化的生产需求。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及应变片制备，特别涉及一种基底层的制备方法、基底层及应变片。

技术介绍

1、应变片通常包括基底层、敏感栅和覆盖层，基底层用于支撑敏感栅，并将基底层与被测物体连接起来。被测物体变形时，变形传递到基底层，再从基底层传递到敏感栅上，基底层的性能直接影响到变形的传递，最终影响应变片测量的准确度。常用的基底层是由均苯四甲酸酐与芳香族二胺缩聚而成的聚酰亚胺，该聚酰亚胺具备优良的成膜性及耐高温性。但该聚酰亚胺作为基底层的模量较低，被测物体变形传递至基底层会产生较大损耗，导致应变片的灵敏度低。

技术实现思路

1、本申请旨在提供一种基底层的制备方法、基底层及应变片，以改善应变片灵敏度低的技术问题。

2、本申请实施例为了解决其技术问题，采用以下技术方案：

3、第一方面，本申请实施例提供了一种基底层的制备方法，所述基底层应用于应变片，所述制备方法包括：将所述芳香二胺溶解在所述第一有机溶剂中，获得第一均相液。将所述芳香二酐溶解在所述第二有机溶剂中，获得第二均相液。将所述第一均相液和所述第二均相液混合，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基底层的制备方法，所述基底层应用于应变片，其特征在于，所述制备方法包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚酰亚胺酸溶液包括如下质量百分比的组分：所述芳香二胺7％～10％，所述芳香二酐6％～10％，所述封端剂0.2％～1.2％，所述第一有机溶剂40％～45％，所述第二有机溶剂40％～45％；

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述芳香二胺包括4,4'-双(4-氨基苯氧基)联苯，所述芳香二酐包括3,3',4,4'联苯四甲酸二酐，所述封端剂包括5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种基底层的制备方法，所述基底层应用于应变片，其特征在于，所述制备方法包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚酰亚胺酸溶液包括如下质量百分比的组分：所述芳香二胺7％～10％，所述芳香二酐6％～10％，所述封端剂0.2％～1.2％，所述第一有机溶剂40％～45％，所述第二有机溶剂40％～45％；

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述芳香二胺包括4,4'-双(4-氨基苯氧基)联苯，所述芳香二酐包括3,3',4,4'联苯四甲酸二酐，所述封端剂包括5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一有机溶剂包括n,n-二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、二氧六环、n-甲基吡咯烷酮或...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱凯征，王钦，张丁山，虞成城，
申请(专利权)人：深圳市信维通信股份有限公司，
类型：发明
国别省市：