【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将在烯属双键上带有吸电子取代基的双环和三环烯胺用作化妆品和药物制品中的防光剂和塑料中的防光添加剂(抗光裂剂)。本专利技术还涉及这类具有防光作用的新化合物。化妆品和药物制品中使用的防光剂的任务是防止,或至少是减小,日光对皮肤的有害作用。但是,这些防光剂也起着保护其它组分免遭紫外辐射的分解或破坏的作用。在头发化妆品制剂中,其目的是减小紫外线对角蛋白纤维的损伤。到达地球表面的日光中含有与可见光区紧邻的UV-B辐射(280-320nm)和UV-A辐射(>320nm)对人类皮肤的影响显示为晒伤,尤其是在UV-B辐射的情形。因此,工业上提供了大量能吸收UV-B辐射并从而防止晒伤的物质。皮肤病学的研究现已表明,UV-A辐射也完全能通过例如破坏角蛋白或弹性蛋白造成皮肤损伤和过敏。这减小了皮肤的弹性和贮水量,即,皮肤变得不太柔软并且会形成皱纹。在目光强辐射区皮肤癌发病率明显要高的事实表明,对细胞内遗传信息的损害显然也是由日光、尤其是UV-A辐射造成的。所有这些发现都说明必须研制对UV-A区有效的滤光物质。对于化妆品和药物制品用的防光剂的需求日益增长,这些防光剂特别应能作为UV-A滤光剂使用,因此其吸收峰应在约320-380nm的范围。为了用最小的数量达到所要求的效果,此类防光剂还应具有高的吸收率。用于化妆品的防光剂还必须满足许多其它要求,例如在化妆油中溶解性好,由它制得的乳状液高度稳定,毒理性质合格,以及固有气味低和固有颜色浅。防光剂必须满足的另一要求是有足够的光稳定性。但是,迄今得到的吸收UV-A的防光剂,在任何情况下都只是不充分地满足这一要求。法国专 ...
【技术保护点】
式Ⅰ化合物单独地或与已知用于化妆品和药物制品的紫外区有吸收的化合物一起,作为保护人类皮肤和头发对抗阳光照射的光稳定性紫外滤光剂在化妆品和药物制品中的应用 *** Ⅰ, 其中 R↑[1]和R↑[2]是相同或不同的吸电子基团,选自氰基,烷基-或芳基羰基,烷氧基-或芳氧基羰基,以及任选取代的氨基羰基, R↑[3]是氢原子,C↓[1]-C↓[20]烷基或C↓[3]-C↓[20]环烷基,或化学式为-CH↓[2]-CH↓[2]-SO↓[3]-M↑[+]的基团,其中M↑[+]是阳离子, X是氧、硫的二价基团,或是以下基团 *** 其中R↑[3]定义如上, Z是式Ⅱ或Ⅲ的二价基团,它们与式Ⅰ基团形成一个稠合体系 *** 其中R↑[4]可以与亚苄基环Ⅰ或萘基环Ⅱ键合一次或多次,并且是氢、烷基、环烷基、烷氧基、环烷基氧基、烷氧基羰基、一或二烷基氨基羰基、烷基氨基、二烷基氨基,它们各有最多20个碳原子,也可以是氰基、氨基和SO↓[3]↑[-]M↑[+],其中M↑[+]是阳离子。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】DE 1999-6-18 19928033.91.式Ⅰ化合物单独地或与已知用于化妆品和药物制品的紫外区有吸收的化合物一起,作为保护人类皮肤和头发对抗阳光照射的光稳定性紫外滤光剂在化妆品和药物制品中的应用 其中R1和R2是相同或不同的吸电子基团,选自氰基,烷基-或芳基羰基,烷氧基-或芳氧基羰基,以及任选取代的氨基羰基,R3是氢原子,C1-C20烷基或C3-C20环烷基,或化学式为-CH2-CH2-SO3-M+的基团,其中M+是阳离子,X是氧、硫的二价基团,或是以下基团 其中R3定义如上,Z是式Ⅱ或Ⅲ的二价基团,它们与式Ⅰ基团形成一个稠合体系 其中R4可以与亚苄基环Ⅰ或萘基环Ⅱ键合一次或多次,并且是氢、烷基、环烷基、烷氧基、环烷基氧基、烷氧基羰基、一或二烷基氨基羰基,烷基氨基、二烷基氨基,它们各有最多20个碳原子,也可以是氰基、氨基和SO3-M+,其中M+是阳离子。2.权利要求1的式Ⅰ化合物的应用,其中Z是式Ⅱ基团。3.权利要求Ⅰ的式Ⅰ化合物的应用,其中R1是氰基或有2-12个碳原子的烷氧基羰基,R2是氢,R3是氢或甲基,R4是C1-C8烷基、C1-C8烷氧基或SO3-M+,其中M+是选自H+、任选取代的铵和金属阳离子的一个阳离子。4.权利要求1的式Ⅰ化合物作为稳定塑料的防光剂的应用。5.一种含有防光剂的化妆品制品,用于保护人的表皮或头发免受280-400nm的紫外光照射,该制品在适合化妆品的载体中,含有单独的或与已知用于化妆和药物制品的吸收紫外光的化合物组合的式Ⅰ化合物 其中R1和R2是相同或不同的吸电子基团,选自氰基,...
【专利技术属性】
技术研发人员:T哈贝克,F普雷希特尔,T温施,H韦斯滕菲尔德,
申请(专利权)人:BASF公司,
类型:发明
国别省市:DE[德国]
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