【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及废水除氟的,尤其是指一种适用于单晶硅废水的除氟药剂及其制备方法。
技术介绍
1、单晶硅片是将单晶硅片依次通过清洗、制绒、扩散、刻蚀、等离子化学气相沉积、丝网印刷等工序制得。在硅片的切割环节,为了提高切割效率和质量,通常会采用硅片线锯切割技术。在这个过程中,含有氟的切割液(如氢氟酸和其他添加剂的混合液)扮演着关键角色。但是也会因此带来含氟废液对环境的污染。《中华人民共和国国家标准污水综合排放标准》(gb 8978-1996)和行业特定的排放标准(如果适用)规定:直接排放标准:直接排入地表水体的污水,氟化物的最高允许排放浓度为10mg/l。间接排放标准:如果污水是经过污水处理厂处理后再排放,则进入污水处理厂的污水中氟化物的浓度应满足污水处理厂的处理能力,并且最终排放至地表水体的水中氟化物浓度不应超过上述的10mg/l限值。
2、单晶硅片制作过程中,同时会存在大量重金属污染物,比如铜(cu)、铁(fe)、镍(ni)、钴(co)、铅(pb)、镉(cd)、铬(cr)、金(au)、银(ag)等重金属,如果直接将这些废水进行
...【技术保护点】
1.一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述除氟药剂原料包括石墨烯、多孔磁性微球絮凝剂、铝盐、铁盐、助凝剂。
2.根据权利要求1所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,以质量份数计,所述石墨烯的用量为10-20份;多孔磁性微球絮凝剂的用量为5-10份;铝盐的用量为10-15份、铁盐的用量为10-15份、助凝剂的用量为2-8份。
3.根据权利要求1或2所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述多孔磁性微球絮凝剂通过以下方法制备得到:
4.根据权利要求3所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述
...【技术特征摘要】
1.一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述除氟药剂原料包括石墨烯、多孔磁性微球絮凝剂、铝盐、铁盐、助凝剂。
2.根据权利要求1所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,以质量份数计,所述石墨烯的用量为10-20份;多孔磁性微球絮凝剂的用量为5-10份;铝盐的用量为10-15份、铁盐的用量为10-15份、助凝剂的用量为2-8份。
3.根据权利要求1或2所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述多孔磁性微球絮凝剂通过以下方法制备得到:
4.根据权利要求3所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂,其特征在于,所述磁性颗粒为磁性四氧化三铁颗粒;
5.根据权利要求3所述的一种适用于单晶硅废水的除氟药剂...
【专利技术属性】
技术研发人员:尚勇,史贞峰,戚翠红,李宝禄,王晓红,李政,
申请(专利权)人:山东环瑞生态科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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