【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及无机非金属材料制备，具体涉及一种具有六方晶体生长外形的钼基氧化物及其制备方法和应用。
技术介绍
1、二氧化钼、三氧化二钼和四氧化三钼是钼氧化物中应用最广泛的三种。它们在催化剂、材料科学和电子器件等领域都有重要的应用。一般钼基氧化物的生产大多都是通过碱液浸出的方法，使含钼固体原料中的钼离子大部分转移至水相中，在通过调整水溶液的ph值获得钼酸，钼酸在经过结晶或者烘干工艺，获得所需的钼基氧化物。从钼酸的制备工艺过程来看，传统的生产工艺采用对钼酸盐溶液进行酸化的方法进行，这样生产出的钼酸杂质较高，杂质元素的存在带来了钼基氧化物产品质量的波动，不能适应相关下游行业的要求。
2、另外，不同的钼基氧化物的晶型具有不同的催化活性，在实际工业应用中，特别是催化行业中，更倾向于采用活性更高但化学计量比相同的产品，因此，生产具有更高活性、能量更高的钼基氧化物具有重要的现实意义。
3、一般认为热力学不稳定相具有更高的活性，本专利技术旨在通过技术的创新，在温和的条件下获得具有六方相的钼基氧化物，减少四方相氧化物的生成，将有利...
【技术保护点】
1.一种具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物具有完整的六方柱状的微观外形。
2.根据权利要求1所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物的晶型属于六方晶系。
3.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物在紫外波段具有更强的光吸收特性。
4.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物在磷酸和类磷酸溶液中具有更高的溶解性能。
5.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物的制备方法，其特...
【技术特征摘要】
1.一种具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物具有完整的六方柱状的微观外形。
2.根据权利要求1所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物的晶型属于六方晶系。
3.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物在紫外波段具有更强的光吸收特性。
4.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物，其特征在于：该钼基氧化物在磷酸和类磷酸溶液中具有更高的溶解性能。
5.根据权利要求1或2所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物的制备方法，其特征在于：该方法具体包括如下步骤：
6.根据权利要求5所述的具有六方晶体生长外形的钼基氧化物的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，所述钼固体原料为钼焙砂、钼酸钠、钼酸钙、钼酸铵、多钼酸铵、钼酸、杂多钼酸和杂多钼酸盐中的一种或几种；所述碱液为浓度为20-35wt.％的naoh溶液，通过控制加入碱液的量将浸出溶液的ph值控制为12-13，浸出溶液中钼浓度控制在80-120g/l...
【专利技术属性】
技术研发人员：易建，刘锦锐，杨伟，郑枝木，罗有伟，
申请(专利权)人：成都鼎泰新材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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