一种制备Er2O3涂层的方法技术

技术编号:4270713 阅读:221 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术属于反应溅射技术领域,特别涉及一种制备Er2O3涂层的方法。将石英基底放置在加热器上,安装靶材,调节靶基距;抽真空至真空度不大于3.0×10-3Pa,将基底加热至700~800℃;通入氩气和水蒸气,将气压调至0.1~0.8Pa,其中水分压为0.04~0.08Pa,开溅射,将溅射功率增加至80~100W,辉光稳定后,移开挡板,开始沉积;沉积20~40分钟后,关挡板,关溅射,断开氩气和水蒸气,切断加热电源,关真空系统,得Er2O3涂层。本发明专利技术反应溅射提高了溅射效率,水蒸气作为反应气体,同时防止了靶材表面的氧化,提高了沉积速率的可控性。本发明专利技术是一种沉积速率既快又可控的Er2O3涂层制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于反应溅射
,特别涉及一种制备Er203涂层的方法。
技术介绍
Er203具有较高的介电性能、良好的光电性能以及优良的抗腐蚀性能,使其在微电 子、光电子、腐蚀与防护以及核应用等领域有着广泛的应用前景。制备结晶良好、致密、结合 力强的高质量Er203涂层具有重要的意义。 目前,各种制膜的方法都可用来制备ErA涂层,如PLD、溅射、电子束蒸发、溶 胶-凝胶、化学气相沉积、原位液浸镀生长等。磁控溅射作为常规的薄膜制备方法有着广泛 的应用,可使用Er203陶瓷靶采用射频磁控溅射制备,也可使用Er金属靶采用直流或射频磁 控溅射制备。但E&03陶瓷靶溅射效率过低,不利于规模应用;金属靶反应磁控溅射容易在 靶材表面生成氧化物,使得涂层沉积速率不易控制。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种制备Er203涂层的方法,其特征在于,以纯金属Er靶为靶 材,采用反应溅射法制备Er203涂层,包括以下步骤 (1)将石英基底放置在加热器上,安装靶材,调节靶基距为30 50mm ; (2)抽真空至真空度不大于3.0X10—卞a,打开加热器电源,将基底加热至700 800°C ; 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备Er↓[2]O↓[3]涂层的方法,其特征在于,以纯金属Er靶为靶材,采用反应溅射法制备Er↓[2]O↓[3]涂层,包括以下步骤:  (1)将石英基底放置在加热器上,安装靶材,调节靶基距为30~50mm;  (2)抽真空至真空度不大于3.0×10↑[-3]Pa,打开加热器电源,将基底加热至700~800℃;  (3)通入氩气和水蒸气,将气压调至0.1~0.8Pa,其中水分压为0.04~0.08Pa,开溅射,将溅射功率增加至80~100W,辉光稳定后,移开挡板,开始沉积;(4)沉积20~40分钟后,关挡板,关溅射,断开氩气和水蒸气,切断加热电源,关真空系统,得Er↓[2]O↓[3]涂层。

【技术特征摘要】
一种制备Er2O3涂层的方法,其特征在于,以纯金属Er靶为靶材,采用反应溅射法制备Er2O3涂层,包括以下步骤(1)将石英基底放置在加热器上,安装靶材,调节靶基距为30~50mm;(2)抽真空至真空度不大于3.0×10-3Pa,打开加热器电源,将基底加热至700~800℃;(3)通入氩气和水蒸气,将气压调至0.1~0.8Pa,其中水分压为0.04~0.08Pa,开溅射,将溅射功率增加至80~100...

【专利技术属性】
技术研发人员:屈飞李弢王磊蒋文文
申请(专利权)人:北京有色金属研究总院
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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