一种纳米级单分散MXene材料的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种纳米级单分散MXene材料的制备方法，涉及纳米材料技术领域。该方法包括以下步骤：一级球磨：MAX相原料和分散剂混合，得混合液，所述混合液用0.5‑1.0mm的锆珠，在2400‑3200转/min下球磨2‑5h，得原料1；二级球磨：将原料1用0.15‑0.45mm的锆珠，在2400‑3200转/min下球磨1‑4h，得原料2；蚀刻处理：将原料2采用湿法酸刻蚀或气相法刻蚀，得所述纳米级单分散MXene材料。本发明专利技术的制备方法可以有效控制MXene材料粒径大小和分布，减少制备时间，提高制备效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纳米材料，尤其是涉及一种纳米级单分散mxene材料的制备方法。

技术介绍

1、mxene是一种类石墨烯二维材料，通常是通过从mn+1axn相中选择性地蚀刻出a层来制备的。三元max相的结构可以描述为二维mn+1axn由a层交错的亚晶格，其中m是早期过渡金属，a为第三或四主族元素，x是c、n中的至少一种。max是一种层状结构材料，max相具有六方层状结构，由mx层和a原子层交替排列组成，m-x之间主要是混合共价/金属键特性，m-a键是金属键特性，键性较弱，在特定的化学环境下，可选择性地腐蚀a原子层，形成稳定的m-x层，表面吸附有-oh、-o、-f等终端官能团，该二维材料即mxene。

2、常规max相原料的目数约为200目到500目不等，最常规为400目，横向尺寸约为38μm。从max相刻蚀得到mxene，单片层尺寸约为5-30μm（微米级）。而对于一些对材料有尺寸要求的领域，如生物医药领域、纳米药物开发领域等，需要进一步制备纳米级mxene材料。目前制备纳米级mxene材料多采用常规刻蚀方法，如酸刻蚀，得到单片层mxene之后再通本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种纳米级单分散MXene材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述MAX相原料的目数为200-600目。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述MAX相原料的目数为200目。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述混合液的固含量为5-80%。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述混合液的固含量为50%。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述MAX相原料...

【技术特征摘要】

1.一种纳米级单分散mxene材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述max相原料的目数为200-600目。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述max相原料的目数为200目。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述混合液的固含量为5-80%。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述混合液的固含量为50%。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述max相原料和锆珠的质量比为1:0.8-5。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述max相原料和锆珠的...

【专利技术属性】
技术研发人员：何青，章冬雯，
申请(专利权)人：苏州北科纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：