【技术实现步骤摘要】
一般而言，本公开内容的实施方式涉及用于校准电子处理系统的对准器站的方法和系统。
技术介绍
0、背景
1、电子处理系统可以包括一个或多个机械臂，用于将基板从电子处理系统的第一站传输到电子处理系统的第二站。在电子处理系统中，基板或物体要从第一站移动，并且以目标取向被放置在第二站处。通常，与第一站和/或第二站相关联的一个或多个系统误差可能阻止机械臂在第二站处以目标取向放置基板或物体。例如，电子处理系统可以包括对准器站和处理腔室，其中可以通过机械臂从对准器站取回基板或物体，用于将基板或物体以目标取向传送到处理腔室。对准器站和/或处理腔室可能与由各种来源引起的特征误差(例如，在处理系统的构建过程中未适当安装对准器站和/或处理腔室、机械臂定位和/或取向中的小误差等)相关联。相应地，当基板或物体从对准器站传送并且最终传送至处理腔室时，基板或物体在取向和/或定位上可能具有小的误差。
技术实现思路
0、概述
1、所描述的一些实施方式涵盖一种方法，方法包括通过传送腔室的第一机械臂从连接...
【技术保护点】
1.一种方法，包含以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
3.如权利要求2所述的方法，其中所述照相机部件或所述另外的照相机部件被包含在以下的至少一者中：电荷耦合装置(CCD)照相机、互补金属氧化物(CMOS)照相机、X射线发射器、或X射线检测器。
4.如权利要求2所述的方法，其中所述照相机部件被包含在与所述另外的照相机部件不同类型的照相机中。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述物体是照相机晶片，并且所述照相机部件是所述照相机晶片的部件。
6.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
7.如...
【技术特征摘要】
1.一种方法，包含以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
3.如权利要求2所述的方法，其中所述照相机部件或所述另外的照相机部件被包含在以下的至少一者中：电荷耦合装置(ccd)照相机、互补金属氧化物(cmos)照相机、x射线发射器、或x射线检测器。
4.如权利要求2所述的方法，其中所述照相机部件被包含在与所述另外的照相机部件不同类型的照相机中。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述物体是照相机晶片，并且所述照相机部件是所述照相机晶片的部件。
6.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
7.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
8.如权利要求1所述的方法，其中所述第一位置状态或所述第二位置状态包含以下至少一者：所述物体的取向或所述物体的位置。
9.一种系统，包含：
10.如权利要求9所述的系统，其中所述控制器进一步用于：
11.如权利要求10所述的系统，其中所述照相机部件或所述另外的照相机部件被包含在以下的至少一者中：电荷耦合装置(ccd)照...
【专利技术属性】
技术研发人员：尼古拉斯·迈克尔·伯甘茨，安德烈亚斯·施密德，利昂·沃尔福夫斯基，金相谦，达蒙·考克斯，保罗·沃思，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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