【技术实现步骤摘要】
实施方式大体上涉及显示装置。更具体地，实施方式涉及在制造显示装置时使用的多波束曝光装置的校正方法。
技术介绍
1、通常，当在构成显示装置的衬底上形成图案时，使用曝光工艺。例如，通过首先将光刻胶层应用于衬底并使用光掩模选择性地曝光光刻胶层以选择性地去除具有不同特性的部分或其它部分来形成图案。
2、可以利用多波束曝光装置来执行曝光工艺。多波束曝光装置可以照射多波束。多波束可以是具有相同或不同剂量的波束的组合。在这种情况下，在波束的剂量大的情况下，可以增大曝光的图案的尺寸，并且在波束的剂量小的情况下，可以减小曝光的图案的尺寸。因此，可以通过组合多波束曝光装置的多波束来调节图案的宽度和尺寸。可以调节多波束曝光装置的多波束的剂量，以减小图案的宽度和尺寸的分散。
技术实现思路
1、实施方式提供了一种多波束曝光装置的校正方法，其单独地校正多波束曝光装置的多波束。
2、通过本公开实现的技术目的不限于本文中所描述的那些，并且本领域技术人员从本公开的描述将清楚地理解本文中未提及的其它技
【技术保护点】
1.多波束曝光装置的校正方法，所述校正方法包括：
2.根据权利要求1所述的校正方法，其中，所述偏差量是多个图案的尺寸的平均值与所述多个图案中的每个的尺寸的测量值之间的差值。
3.根据权利要求1所述的校正方法，其中，所述边缘波束的所述灰度级和所述图案的所述尺寸的根据所述第二波束的所述变化量彼此成反比。
4.根据权利要求3所述的校正方法，其中，所述第一函数是其中所述边缘波束的所述灰度级和所述图案的所述尺寸的根据所述第二波束的所述变化量彼此成反比的一阶或高阶函数。
5.根据权利要求4所述的校正方法，其中，所述第一函数由以下方程
【技术特征摘要】
1.多波束曝光装置的校正方法，所述校正方法包括：
2.根据权利要求1所述的校正方法，其中，所述偏差量是多个图案的尺寸的平均值与所述多个图案中的每个的尺寸的测量值之间的差值。
3.根据权利要求1所述的校正方法，其中，所述边缘波束的所述灰度级和所述图案的所述尺寸的根据所述第二波束的所述变化量彼此成反比。
4.根据权利要求3所述的校正方法，其中，所述第一函数是其中所述边缘波束的所述灰度级和所述图案的所述尺寸的根据所述第二波束的所述变化量彼此成反比的一阶或高阶函数。
5.根据权利要求4所述的校正方法，其中，所述第一函数由以下方程1表示：
6.根据权利要求5所述的校正方法，其中，所述第二函数由以下方程2表示：
7.根据权利要求6所述的校正方法，其中，所述n和所述m中的每个的最大值等于包括在所述多波束组合中的波束的数量。
8.根据权利要求6所述的校正方法，其中，所述矩阵方程由以下方程表示：
9.根据权利要求8所述的校正方法，其中，导出所述矩阵方程的所述解包括：
10.根据权利要求9所述的校正方法，其中，导出所述多个波束的所述最优剂量包括：
11.根据权利要求10所述的校正方法，其中，将所述b矩阵的所述值转换为所述最优剂量的所述校正量包括：将所述b矩阵的所述值除以所述f(...
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