【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于抛光，具体为一种纳米材料生产用表面抛光设备及方法。
技术介绍
1、纳米材料是指在三维空间中至少有一维处于纳米尺寸或由它们作为基本单元构成的材料，这大约相当于10-100个原子紧密排列在一起的尺度，而纳米材料在生产过程中需要对其表面进行打磨抛光的操作。
2、现有的抛光设备在对纳米材料的表面进行抛光的过程中，通常只能对材料的单面进行抛光处理，在对纳米材料的另一面抛光时只能将其翻转进行后续操作，但纳米材料在翻转过程中不易稳定，会出现晃动或脱位等现象，使得材料有着损坏的风险，从而降低了设备的使用效果。
技术实现思路
1、针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本专利技术提供一种纳米材料生产用表面抛光设备及方法，有效的解决了上述
技术介绍
中的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种纳米材料生产用表面抛光设备，包括加工台，所述加工台上安装有两个u型框板，u型框板上设置有多方位旋抛器，多方位旋抛器用于对材料抛光设置；两个所述u型框板的开口方向均朝向加工台，且两个u型框板交叉连接；
3、一个所述u型框板的相向面上均滑动有导向方杆，导向方杆上设置有执动锁移单元，执动锁移单元用于将材料夹持设置；两个所述导向方杆的相向面上均安装有旋向转块，旋向转块上设置有转向旋位组件，转向旋位组件用于对材料翻转设置；所述导向方杆上还设有若干锁位插槽。
4、优选的，所述转向旋位组件包括旋向板，旋向板远离材料的一侧设有旋向转槽，旋向转槽与旋向转块转
5、优选的，所述旋向板的两侧为半圆设置，两个半圆的开口方向相反；两个所述l型滑块的相对面上均安装有限位滑杆，限位滑杆上滑动有限位滑块，两个限位滑块的相向面上均对称设有限位齿块；所述旋动齿槽位于限位齿块的移动路径上；所述限位滑杆上套设有限位弹簧，限位弹簧的一端上连接有限位方板，另一端与限位滑块连接；所述限位方板设置于限位滑杆的端点上。
6、优选的，所述多方位旋抛器包括伸缩气缸；所述伸缩气缸通过螺栓设置于两个u型框板共同连接部分的内底面上；所述伸缩气缸的输出端上安装有旋转圆盘，旋转圆盘的四周安装有止偏方板，止偏方板的顶面上安装有止偏方杆，止偏方杆与u型框板滑动连接。
7、优选的，所述旋转圆盘靠近加工台的一侧设有位移滑槽，位移滑槽上滑动有位移方块，位移方块上安装有旋转电机，旋转电机的输出端上设有抛光盘，抛光盘用于对材料的表面抛光。
8、优选的，所述旋向板的转动路径上设置有两个位移横块，两个位移横块以对称的方式位于旋向板的两侧；所述位移横块上还设置有向定止晃单元；所述向定止晃单元包括向移圆杆；所述向移圆杆均设置于两个位移横块的相对面上；所述向移圆杆上滑动有第一基板，第一基板与加工台的顶面连接；所述向移圆杆上套设有向移弹簧，向移弹簧的一端与位移横块连接，另一端与第一基板连接。
9、优选的，所述执动锁移单元包括对称设置于旋向板上的止动滑柱，两个止动滑柱共同连接锁位弧块，锁位弧块的内侧壁上设有橡胶垫；所述锁位弧块和橡胶垫与材料共轴；所述止动滑柱上套设有止动弹簧，止动弹簧的一端与锁位弧块连接，另一端与旋向板连接；所述导向方杆上套设有导向弹簧，导向弹簧的一端与u型框板连接，另一端连接有导向限板，导向限板设置于导向方杆远离材料的一端。
10、优选的，两个所述向移圆杆的相向端上均安装有折弯方杆，两个折弯方杆交叉设置且两者之间具有一定高度；所述折弯方杆上安装有贴合横板，两个贴合横板的相向面上均对称设有贴合套筒，贴合套筒上滑动有贴合套柱，贴合套柱上安装有贴合半环，贴合半环的内侧壁上设有消能垫，材料位于消能垫和贴合半环的移动路径上；所述贴合套筒内设置有贴合弹簧，贴合弹簧的一端与贴合套柱连接，另一端与贴合套筒的内底面连接。
11、优选的，所述u型框板的两侧安装有第二基板，第二基板上滑动有辅助圆柱，辅助圆柱的一端连接有辅助限板，另一端连接有辅助横板，辅助横板朝向加工台的一侧安装有锁位插杆；所述锁位插槽位于锁位插杆的移动路径上；所述辅助圆柱上套设有辅助弹簧，辅助弹簧的一端与辅助限板连接，另一端与第二基板连接。
12、本专利技术还提供了一种纳米材料生产用表面抛光方法，包括以下步骤：
13、s001、操作执动锁移单元，使得材料被夹持于加工台上；
14、s002、使用多方位旋抛器，用于将材料抛光设置；
15、s003、在转向旋位组件的作用下，对材料进行翻转，从而对材料的两面进行抛光。
16、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
17、(1)通过转动旋向板，使其在旋向转槽上限位转动，在不影响止动滑柱和止动弹簧的效果下使得两个锁位弧块转动，而锁位弧块此刻的位置并未发生移动，使其依然对材料夹持设置，从而带动材料转动设置，完成对材料的翻转操作；值得一提的是当旋向板带动材料翻转时使得l型滑块上的旋转槽在旋动转环上限位转动，对旋向板及材料的转动进行限位，避免在转动时出现晃动等现象，提升了材料及旋向板转动时的稳定性；使得材料在翻面过程中也是处于被夹持的状态，且不需要解除对材料的限位也就是不用重新装卸，降低了设备在使用时的局限性，同时减少了操作人员的工作强度，使得材料在翻转时不会出现晃动或脱位等现象，同时位置也不会发生改变，提升了材料翻转的稳定性，避免材料损坏的同时提升了设备的使用效果；
18、(2)操作执动锁移单元，使得材料被夹持于加工台上，且夹持位置位于加工台的中心处，随即通过使用多方位旋抛器，使得抛光盘对纳米材料进行抛光操作，且在转向旋位组件的作用下，用于将对材料翻转，使得抛光盘能够对纳米材料的两面均可进行抛光操作；
19、(3)拉动限位滑块，使其在限位滑杆上限位移动，使得限位弹簧处于缓冲的状态，继而使得限位滑块上的限位齿块不再与旋动齿槽接触，解除对l型滑块的限位设置，使得旋向板上的材料可翻面设置；当旋向板夹持的材料完成翻转后松开限位滑块，通过限位弹簧的复位带动限位齿块复位移动并与旋动齿槽连接，即可对l型滑块限位设置，使得旋向板被限位于当前位置，避免材料在被抛光时出现非人为因素的翻转等现象，降低了设备在使用时的局限性，进一步提升了设备的抛光效果。
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1.一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：包括加工台(1)，所述加工台(1)上安装有两个U型框板(2)，U型框板(2)上设置有多方位旋抛器，多方位旋抛器用于对材料抛光设置；两个所述U型框板(2)的开口方向均朝向加工台(1)，且两个U型框板(2)交叉连接；
2.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述转向旋位组件包括旋向板(6)，旋向板(6)远离材料的一侧设有旋向转槽(7)，旋向转槽(7)与旋向转块(4)转动连接；所述旋向板(6)的顶面和底面安装有L型滑块(8)，L型滑块(8)的开口方向远离材料且设有旋转槽(9)，旋转槽(9)延伸至L型滑块(8)远离材料的边缘处；所述旋转槽(9)上转动有旋动转环(10)，旋动转环(10)的侧面设有固定L杆，固定L杆与导向方杆(3)连接；所述旋动转环(10)的外侧壁上设有若干旋动齿槽(11)。
3.根据权利要求2所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋向板(6)的两侧为半圆设置，两个半圆的开口方向相反；两个所述L型滑块(8)的相对面上均安装有限位滑杆(12)，限位滑杆(12)上
4.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述多方位旋抛器包括伸缩气缸(16)；所述伸缩气缸(16)通过螺栓设置于两个U型框板(2)共同连接部分的内底面上；所述伸缩气缸(16)的输出端上安装有旋转圆盘(17)，旋转圆盘(17)的四周安装有止偏方板(18)，止偏方板(18)的顶面上安装有止偏方杆(19)，止偏方杆(19)与U型框板(2)滑动连接。
5.根据权利要求4所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋转圆盘(17)靠近加工台(1)的一侧设有位移滑槽(20)，位移滑槽(20)上滑动有位移方块(21)，位移方块(21)上安装有旋转电机(22)，旋转电机(22)的输出端上设有抛光盘(23)，抛光盘(23)用于对材料的表面抛光。
6.根据权利要求2所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋向板(6)的转动路径上设置有两个位移横块(24)，两个位移横块(24)以对称的方式位于旋向板(6)的两侧；所述位移横块(24)上还设置有向定止晃单元；所述向定止晃单元包括向移圆杆(25)；所述向移圆杆(25)均设置于两个位移横块(24)的相对面上；所述向移圆杆(25)上滑动有第一基板(26)，第一基板(26)与加工台(1)的顶面连接；所述向移圆杆(25)上套设有向移弹簧(27)，向移弹簧(27)的一端与位移横块(24)连接，另一端与第一基板(26)连接。
7.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述执动锁移单元包括对称设置于旋向板(6)上的止动滑柱(28)，两个止动滑柱(28)共同连接锁位弧块(29)，锁位弧块(29)的内侧壁上设有橡胶垫(30)；所述锁位弧块(29)和橡胶垫(30)与材料共轴；所述止动滑柱(28)上套设有止动弹簧(31)，止动弹簧(31)的一端与锁位弧块(29)连接，另一端与旋向板(6)连接；所述导向方杆(3)上套设有导向弹簧(32)，导向弹簧(32)的一端与U型框板(2)连接，另一端连接有导向限板(33)，导向限板(33)设置于导向方杆(3)远离材料的一端。
8.根据权利要求6所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：两个所述向移圆杆(25)的相向端上均安装有折弯方杆(34)，两个折弯方杆(34)交叉设置且两者之间具有一定高度；所述折弯方杆(34)上安装有贴合横板(35)，两个贴合横板(35)的相向面上均对称设有贴合套筒(36)，贴合套筒(36)上滑动有贴合套柱(37)，贴合套柱(37)上安装有贴合半环(38)，贴合半环(38)的内侧壁上设有消能垫(39)，材料位于消能垫(39)和贴合半环(38)的移动路径上；所述贴合套筒(36)内设置有贴合弹簧(40)，贴合弹簧(40)的一端与贴合套柱(37)连接，另一端与贴合套筒(36)的内底面连接。
9.根据权利要求7所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述U型框板(2)的两侧安装有第二基板(41)，第二基板(41)上滑动有辅助圆柱(42)，辅助圆柱(42)的一端连接有辅助限板(43)，另一端连接有辅助横板(44)，辅助横板(44)朝向加工台...
【技术特征摘要】
1.一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：包括加工台(1)，所述加工台(1)上安装有两个u型框板(2)，u型框板(2)上设置有多方位旋抛器，多方位旋抛器用于对材料抛光设置；两个所述u型框板(2)的开口方向均朝向加工台(1)，且两个u型框板(2)交叉连接；
2.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述转向旋位组件包括旋向板(6)，旋向板(6)远离材料的一侧设有旋向转槽(7)，旋向转槽(7)与旋向转块(4)转动连接；所述旋向板(6)的顶面和底面安装有l型滑块(8)，l型滑块(8)的开口方向远离材料且设有旋转槽(9)，旋转槽(9)延伸至l型滑块(8)远离材料的边缘处；所述旋转槽(9)上转动有旋动转环(10)，旋动转环(10)的侧面设有固定l杆，固定l杆与导向方杆(3)连接；所述旋动转环(10)的外侧壁上设有若干旋动齿槽(11)。
3.根据权利要求2所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋向板(6)的两侧为半圆设置，两个半圆的开口方向相反；两个所述l型滑块(8)的相对面上均安装有限位滑杆(12)，限位滑杆(12)上滑动有限位滑块(13)，两个限位滑块(13)的相向面上均对称设有限位齿块(14)；所述旋动齿槽(11)位于限位齿块(14)的移动路径上；所述限位滑杆(12)上套设有限位弹簧(15)，限位弹簧(15)的一端上连接有限位方板，另一端与限位滑块(13)连接；所述限位方板设置于限位滑杆(12)的端点上。
4.根据权利要求1所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述多方位旋抛器包括伸缩气缸(16)；所述伸缩气缸(16)通过螺栓设置于两个u型框板(2)共同连接部分的内底面上；所述伸缩气缸(16)的输出端上安装有旋转圆盘(17)，旋转圆盘(17)的四周安装有止偏方板(18)，止偏方板(18)的顶面上安装有止偏方杆(19)，止偏方杆(19)与u型框板(2)滑动连接。
5.根据权利要求4所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋转圆盘(17)靠近加工台(1)的一侧设有位移滑槽(20)，位移滑槽(20)上滑动有位移方块(21)，位移方块(21)上安装有旋转电机(22)，旋转电机(22)的输出端上设有抛光盘(23)，抛光盘(23)用于对材料的表面抛光。
6.根据权利要求2所述的一种纳米材料生产用表面抛光设备，其特征在于：所述旋向板(6)的转动路径上设置有两个位移横块(24)，两个位移横块(24)以对称的方式位于旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：水娴，张亚非，杨玉兰，胡均，杨卫华，水卫忠，
申请(专利权)人：高意匠成都新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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