【技术实现步骤摘要】
一般而言，本公开内容的实施方式涉及用于校准电子处理系统的对准器站的方法和系统。
技术介绍
0、背景
1、电子处理系统可以包括一个或多个机械臂，用于将基板从电子处理系统的第一站传输到电子处理系统的第二站。在电子处理系统中，基板或物体要从第一站移动，并且以目标取向被放置在第二站处。通常，与第一站和/或第二站相关联的一个或多个系统误差可能阻止机械臂在第二站处以目标取向放置基板或物体。例如，电子处理系统可以包括对准器站和处理腔室，其中可以通过机械臂从对准器站取回基板或物体，用于将基板或物体以目标取向传送到处理腔室。对准器站和/或处理腔室可能与由各种来源引起的特征误差(例如，在处理系统的构建过程中未适当安装对准器站和/或处理腔室、机械臂定位和/或取向中的小误差等)相关联。相应地，当基板或物体从对准器站传送并且最终传送至处理腔室时，基板或物体在取向和/或定位上可能具有小的误差。
技术实现思路
0、概述
1、所描述的一些实施方式涵盖一种方法，方法包括通过传送腔室的第一机械臂从连接...
【技术保护点】
1.一种方法，包含以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其中所述物体在所述处理腔室处在0.00001°的准确度内具有所述目标处理腔室取向。
3.如权利要求1所述的方法，其中确定与在所述对准器站和所述处理腔室之间的所述传送路径相关联的所述特征误差值包含：
4.如权利要求3所述的方法，其中识别与所确定的所述传送路径相关联的所述特征误差值包含：
5.如权利要求4所述的方法，其中所述存储介质存储复数个对准配方，所述复数个对准配方各自与相应传送路径相关联，所述相应传送路径与在所述处理系统内传送物体相关联，并且其中与用于在所述对准...
【技术特征摘要】
1.一种方法，包含以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其中所述物体在所述处理腔室处在0.00001°的准确度内具有所述目标处理腔室取向。
3.如权利要求1所述的方法，其中确定与在所述对准器站和所述处理腔室之间的所述传送路径相关联的所述特征误差值包含：
4.如权利要求3所述的方法，其中识别与所确定的所述传送路径相关联的所述特征误差值包含：
5.如权利要求4所述的方法，其中所述存储介质存储复数个对准配方，所述复数个对准配方各自与相应传送路径相关联，所述相应传送路径与在所述处理系统内传送物体相关联，并且其中与用于在所述对准器站和所述处理腔室之间传送物体的所述传送路径相关联的所述对准配方是从所述复数个对准配方识别的。
6.如权利要求1所述的方法，其中基于所确定的所述特征误差值引起所述对准器站调整所述物体从所述第一取向到第二取向的对准包含引起所述对准器站执行以下至少一者：
7.如权利要求1所述的方法，其中所述物体是工艺配件环。
8.如权利要求1所述的方法，其中引起所述处理系统的所述一个或多个机械臂将所述物体沿着所述传送路径从所述对准器站传送到所述处理腔室包含：引起所述一个或多个机械臂的第一机械臂从所述对准器站取回所述物体；
9.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含：
10.如权利要求9所述的方法，其中计算所述特征误差值包含：
11.如权利要求10所述的方法，其中所述处理腔室的基板支撑件包含一个或...
【专利技术属性】
技术研发人员：尼古拉斯·迈克尔·伯甘茨，安德烈亚斯·施密德，利昂·沃尔福夫斯基，金相谦，达蒙·考克斯，保罗·沃思，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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