一种氮化铝陶瓷基板烧结炉制造技术

本技术属于陶瓷基板烧结设备技术领域，尤其涉及一种氮化铝陶瓷基板烧结炉,包括：输送结构，所述输送结构为水平设置，用以输送待烧结的基板；烧结炉，所述烧结炉沿着输送结构设置，且部分输送结构设置于烧结炉中；输送台，所述输送台设置在输送结构上，且均布设置有若干，通过输送结构能够驱动输送台移动；放置台，所述放置台设置在输送台上，用以放置烧结的基板；旋转结构，所述旋转结构设置在输送台与放置台之间，用以驱动放置台转动。达到了能够使氮化铝陶瓷基板受热均匀，提升氮化铝陶瓷基板生产质量的效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于陶瓷基板烧结设备，尤其涉及一种氮化铝陶瓷基板烧结炉。

技术介绍

1、随着现代电子技术的飞速发展，电子元器件的集成度和功率密度不断提高，对散热基板材料的要求也日益严格。氮化铝陶瓷材料，以其高热导率、低介电常数、与硅相近的热膨胀系数和良好的机械性能，逐渐成为高功率电子器件和集成电路封装的首选散热基板材料。

2、中国技术专利cn213454871 u公开了一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结装备，包括烧结炉，还包括基座箱，基座箱的上端面通过支撑柱支撑有圆柱箱，基座箱的中部设置有通过传动装置带动的转盘，转盘上弧形等距设置有若干组放置台，圆柱箱内设置有相对放置台的烧结炉，圆柱箱的上端设置有与烧结炉连接的电动推杆，圆柱箱位于烧结炉的下方设置有避让孔，圆柱箱内位于烧结炉一端设置有与放置台相对应的冷风装置。

3、该装置通过将氮化铝陶瓷基板放置在盛放台上方，通过倒扣的烧结炉对氮化铝陶瓷基板进行烧结，但是在烧结时易导致氮化铝陶瓷基板受热不均匀从而出现裂纹的问题，影响氮化铝陶瓷基板生产质量。

技术实现思路

<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于,包括：

2.根据权利要求1所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述旋转结构(4)包括：

3.根据权利要求1所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述放置台(8)设置为阶梯型。

4.根据权利要求3所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述放置台(8)每层阶梯的两侧均设置有夹持结构(5)。

5.根据权利要求4所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述夹持结构(5)包括：

6.根据权利要求5所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述固定顶杆(506)为锥形结构。...

【技术特征摘要】

1.一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于,包括：

2.根据权利要求1所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述旋转结构(4)包括：

3.根据权利要求1所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述放置台(8)设置为阶梯型。

4.根据权利要求3所述的一种氮化铝陶瓷基板烧结炉，其特征在于，所述放置台(8)每层阶梯的两侧均设置有夹持结构(5)。

5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张海龙，李军，
申请(专利权)人：科菲材料技术浙江有限公司，
类型：新型
国别省市：