【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文公开的是光纤锥的主题，例如用于熔融光耦合器和波分复用器(wdm)，或期望在光纤锥中保持极低(接近零)非绝热损耗的其他应用。
技术介绍
1、锥形光纤用于许多应用中，常见的例子是熔融光纤耦合器和wdm，其中两根或多根光纤熔融在一起，然后被锥形化，以产生从一个纤芯区域到另一个纤芯区域的绝热过渡。众所周知，并非所有光纤都能在不造成通过锥形区域传播的光信号损耗(衰减)的情况下被锥形化。这种损失可以通过“绝热标准”来量化，该标准规定最大允许局部锥角ω(z)必须符合以下关系：
2、
3、其中，ρ(z)是纤芯半径，β1是he11模式的局部传播常数，β2是he12模式的局部传播常数。从上面可以明显看出，如果β1和β2之间的差值太小，he11和he12模式将经历一定程度的耦合，并且在锥形化过程中会出现损耗振荡，这对于大多数应用来说是不希望的。此后，有时也可参考光纤纤芯和包层的折射率值，其中传播常数β和折射率neff之间的关系定义如下：
4、
5、其中λ是沿光纤纤芯传播的光波的波长。
6、抑制模...
【技术保护点】
1.一种光纤，包括：
2.如权利要求1中所限定的光纤，其中所述专用包层包括二氧化硅，选择所述折射率降低掺杂剂和所述至少一种折射率增加掺杂剂的浓度，使得nclad基本上等于未掺杂二氧化硅的折射率。
3.如权利要求1中所限定的光纤，其中所述专用包层中包含的所述折射率降低掺杂剂包含氟F。
4.如权利要求3中所限定的光纤，其中所述折射率增加掺杂剂由选自由锗Ge、磷P和氯Cl组成的组中的至少一种成分组成。
5.如权利要求4中所限定的光纤，其中Ge、P、Cl中的一种或多种以及F的相对浓度受到控制，以在所述光纤的非锥形部分中的所述专用...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光纤，包括：
2.如权利要求1中所限定的光纤，其中所述专用包层包括二氧化硅，选择所述折射率降低掺杂剂和所述至少一种折射率增加掺杂剂的浓度，使得nclad基本上等于未掺杂二氧化硅的折射率。
3.如权利要求1中所限定的光纤，其中所述专用包层中包含的所述折射率降低掺杂剂包含氟f。
4.如权利要求3中所限定的光纤，其中所述折射率增加掺杂剂由选自由锗ge、磷p和氯cl组成的组中的至少一种成分组成。
5.如权利要求4中所限定的光纤，其中ge、p、cl中的一种或多种以及f的相对浓度受到控制，以在所述光纤的非锥形部分中的所述专用包层内表现出定义的折射率nclad。
6.如权利要求5中所限定的光纤，其中所...
【专利技术属性】
技术研发人员：D·P·杰科布森，J·V·约根森，S·赫斯特罗姆，P·克里斯藤森，S·奥维塔尔，C·J·肖特，
申请(专利权)人：OFS菲特尔有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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