【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及绕射和干涉效应的不变形光斑的取像装置与方法，尤其是一种散射光通过小孔径限光模组而产生绕射光，绕射光又彼此干涉形成光斑，并加以取像的装置与方 法。
技术介绍
当两束高同调性光束迭加在 一 起，且其光程差(0PD)小于同调长度 (coherentlength)时，会产生干涉效应，而干涉效应分为建设性干涉与破坏性干涉，建设性 干涉使两光束迭加后的光强度为亮的，而破坏性干涉则为暗的，因此干涉效应可造成光强 度的分布成为亮暗排列的图形。干涉与光程差有关，当两光束相遇时，若其光程差为半波长 的奇数整数倍，则会产生破坏性干涉，若其光程差为零或半波长的偶数整数倍时，则产生建 设性干涉，因此，亮暗排列的干涉图形可提供光程差变化量为半波长的感测精度。由于光的 波长相当短，如可见光的波长约为0. 4到0. 7ym，所以半波长的感测精度是相当灵敏的，也 因此，干涉效应常被广泛的应用到各种场合。 当高同调性的光入射一较粗糙的表面时，便会因粗糙的表面而使高同调性光产生 散射(scattering)，散射光是往任意方向传播的，若其中任意两高同调性的散射光迭加在 一起且其光程差又小于同调...
【技术保护点】
一种不变形光斑的取像装置，其特征在于，包含：一光源，其发射一高同调性光，且该高同调性光照射一表面，进而散射产生多个散射光；一限光模组，限制该多个散射光的入射视场角，使该多个散射光产生多个绕射光，且该多个绕射光彼此干涉而产生多个光斑；一感测器，接受该多个光斑，进而产生一第一光斑图，当该限光模组与该感测器相对该表面移动时，则产生一第二光斑图，经由比对该第一光斑图与该第二光斑图，得以判断该感测器相对该表面的移动方向与移动距离；以及一前级限光件，设置于该限光模组与该表面之间，阻止该散射光的二次散射光通过该限光模组而进入感测器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄宜裕，马心一，王茂燃，黄文政，黄钦德，刘光新，
申请(专利权)人：国防部军备局中山科学研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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