【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米材料加工成形领域，具体地，涉及一种非线性光限幅透明器件及其制备方法，更具体地，涉及一种金属酞菁-聚合物微胶囊材料、基于该微胶囊材料的光限幅器件及其制备方法。
技术介绍
1、尽管激光技术在当前的光子时代取得了进步，但意外暴露在高强度辐射下会对人眼、光学传感器和敏感光学元件造成损害。目前的主动保护方法，如频率滤波器、空间光调制器、激光探测器和分析仪，持续消耗能量，属于有源方法。在这方面，基于非线性光学特性的光限幅器件作为一种被动方法，设计为对低强度入射光透明，而对高强度入射光进行限制，属于无源方法。
2、有机材料如酞菁类作为非线性材料，具有响应速度块、线性透明度优异和易于加工的特点，广泛用于制备非线性光限幅器件，酞菁类材料具有高度共轭的18π电子系统，强的共轭芳香结构赋予了酞菁特殊的电子，使其能够以金属离子为中心发生非常快速的可逆氧化还原过程，因而酞菁环内的空腔与金属铁，钴，镍，铜，锌等元素结合形成金属酞菁，且其外围可被多种原子及基团取代。然而，受限于酞菁类材料易聚集、溶解度差、溶于溶剂导致失活等问题，难以制备...
【技术保护点】
1.一种金属酞菁-聚合物微胶囊材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属酞菁与聚合单体的质量比为(0.05-5)：100。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述超声的时间为3-10分钟。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述乳化剂为十二烷基苯磺酸和/或十二烷基硫酸钠，所述乳化剂与所述乳化剂水溶液中去离子水的质量比为(0.01-0.05):100；所述乳化剂的用量大于其临界胶束浓度，且与所述聚合单体的质量比小于0.5：100。
5.如权...
【技术特征摘要】
1.一种金属酞菁-聚合物微胶囊材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属酞菁与聚合单体的质量比为(0.05-5)：100。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述超声的时间为3-10分钟。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述乳化剂为十二烷基苯磺酸和/或十二烷基硫酸钠，所述乳化剂与所述乳化剂水溶液中去离子水的质量比为(0.01-0.05):100；所述乳化剂的用量大于其临界胶束浓度，且与所述聚合单体的质量比小于0.5：100。
5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述引发剂为过硫酸盐引发剂，所述引发剂与所述聚合单体的质量比为(0.5-1.5):100。
【专利技术属性】
技术研发人员：陈丹，杨镖，郭楚才，罗芳，周青伟，朱志宏，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：
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