【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施方式一般涉及光光刻系统。更具体来说，本专利技术的实施方式涉及补偿图案缺陷的数字光刻系统。
技术介绍
1、光刻技术广泛用于半导体元件的制造中，例如用于半导体元件的后端处理，以及显示装置，例如液晶显示器(lcd)。例如，大面积的基板经常用于液晶显示器的制造中。液晶显示器或平板显示器通常用于有源矩阵显示器(active matrix display)，例如计算器、触控面板设备、个人数字助理(pda)、手机、电视或类似物。通常，平板显示器在每个像素处包括夹在两个板之间的作为相变材料的液晶材料的层。当跨过液晶材料或通过液晶材料施加来自电源供应器的电源时，在像素位置处控制通过液晶材料的光量，即，选择性地调制所述光的量，使得能够在显示器上生成图像。
2、已经采用数字光刻技术来产生用于供应电力的电特征，以选择性地调制像素位置处的液晶材料。根据这些技术，将薄膜层、然后将光敏光刻胶施加到基板的至少一个表面上。然后，图案生成器(pattern generator)利用光曝照光敏光刻胶的选定区域，以使选定区域中的光刻胶发生化学变化，...
【技术保护点】
1.一种创建补偿曝光图案的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述基板的连续区域重复使用所述使用检查系统测量所述基板的所述第一区域的所述3D轮廓以及测量所述基板的所述第一区域的所述至少一个裸片的所述裸片偏移，直到沿所述基板的长度进行了3D轮廓的测量和裸片偏移的测量。
3.根据权利要求2所述的方法，其中在所述基板的所述连续区域的所述3D轮廓的所述测量以及所述基板的所述连续区域的所述裸片偏移的所述测量之后，将所述基板的所述第一区域曝光至所述补偿图案。
4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：当通过所述数...
【技术特征摘要】
1.一种创建补偿曝光图案的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述基板的连续区域重复使用所述使用检查系统测量所述基板的所述第一区域的所述3d轮廓以及测量所述基板的所述第一区域的所述至少一个裸片的所述裸片偏移，直到沿所述基板的长度进行了3d轮廓的测量和裸片偏移的测量。
3.根据权利要求2所述的方法，其中在所述基板的所述连续区域的所述3d轮廓的所述测量以及所述基板的所述连续区域的所述裸片偏移的所述测量之后，将所述基板的所述第一区域曝光至所述补偿图案。
4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：当通过所述数字光刻系统对所述基板的所述第一区域进行曝光时，使用所述检查系统测量所述基板的第二区域的第二3d轮廓和第二裸片偏移。
5.根据权利要求4所述的方法，其中所述数字光刻系统确定所述基板的所述第一区域的所述曝光的完成。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述补偿图案数据被发送到所述数字光刻系统。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述3d轮廓测量是在所述裸片偏移测量之前执行的。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述接口用所述补偿图案数据覆盖曝光图案数据。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述3d轮廓的所述测量是由所述检查系统的翘曲检查工具执行的，所述裸片偏移的所述测量是由所述检查系统的裸片偏移检查工具执行的，所述检查系统还...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈庆昌，赖建华，陈韦仲，郭士豪，王修仁，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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