【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于超分辨激光纳米直写光刻领域,尤其涉及一种连续光超分辨3d石英玻璃制备方法。
技术介绍
1、微纳光学结构制造技术的创新对高端制造业的发展具有重要意义,早期微纳光学器件的材料都以有机聚合物为主,然而热稳定性差、易黄化、机械性能差等问题阻碍了进一步的发展。石英玻璃(二氧化硅)材料具有光学透明度高、熔点高、热膨胀系数低、物理化学性能稳定等诸多优势,是制备光学器件的最佳材料之一。不过,石英玻璃材料因其熔化温度高以及硬脆材料的特性,使其难以热成型和机械加工,因而复杂结构的石英玻璃器件无法通过高温熔融法、化学合成法等常规制备技术获得。近十年来,随着制造技术与材料研究的不断突破,高温烧结去除粘合剂等方法的出现,为石英玻璃材料的3d制造推开了新的大门。
2、目前微纳石英玻璃结构的制造正处于一个快速发展阶段,然而面向真正的实用化,各类技术仍然面临3d刻写分辨率、效率、表面粗糙度共同提升的需求。相比于其他刻写技术,双光子激光直写技术所能实现的刻写分辨率远小于其他技术,并且笼型聚倍半硅氧烷(poss)单体与光引发剂组合的模式,将给与该
...【技术保护点】
1.一种连续光超分辨3D石英玻璃制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激发光的波长范围为400nm至800nm,所述促进光的波长范围为400nm至800nm。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述双色双步吸收光引发剂为苯偶酰或2,3-丁二酮。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述阻聚剂为癸二酸双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1-氧基)酯或2,2,6,6-四甲基-1-氧化哌啶。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述双色双步吸收光引发剂、笼型聚倍半硅
...【技术特征摘要】
1.一种连续光超分辨3d石英玻璃制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激发光的波长范围为400nm至800nm,所述促进光的波长范围为400nm至800nm。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述双色双步吸收光引发剂为苯偶酰或2,3-丁二酮。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述阻聚剂为癸二酸双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1-氧基)酯或2,2,6,6-四甲基-1-氧化哌啶。
5.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐良,丁晨良,匡翠方,温积森,朱大钊,刘旭,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:
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