Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用技术

技术编号:42634721 阅读:20 留言:0更新日期:2024-09-06 01:34
本发明专利技术公开一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,由按重量百分比计的以下组分组成:金字塔塔尖保护剂0.02~1%;葡萄糖酸钠0.05~1.4%;氢氧化钠1~3%;水杨酸0.5~2%;1,6‑己二醇0.01~0.1%;琼脂糖0.01~1.5%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.01~0.1%;去离子水90~95%;所述金字塔塔尖保护剂为多糖。本发明专利技术还公开了上述刻蚀剂的制备方法和在制绒刻蚀方面的具体应用方法。本发明专利技术采用了金字塔塔尖保护剂和醚类的表面活性剂,不仅腐蚀出的金字塔结构更加均匀,反射率较低,而且可以有效的保护塔尖不受到过度的腐蚀,尤其降低了后面镀膜工艺色差不良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光伏材料制备,特别是涉及一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用。


技术介绍

1、在topcon电池湿法工艺中,制绒是第一道工序,主要作用是利用单晶硅硅片表面的金刚线的切割留下切割凹槽形成了能量缺陷,腐蚀也是从能量缺陷处开始进行腐蚀。在硅体内部存在晶面,不同晶面的腐蚀速率不一致,从而易于形成金字塔结构的形貌。这种形貌结构可以增强陷光性,减少光的反射率,尤其在金字塔塔尖的位置,会影响一部分光的反射方向,直接和电性能有所关联。

2、目前市面上所使用的topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,仅可以控制金字塔的形貌结构,而无法进一步对金字塔塔尖进行保护,存在反射率比较高(约为10~12%)和塔尖出现了圆润的结构的问题,影响了光伏光电转换和在做封装时的良率。

3、因此,为了进一步降低单晶硅电池的反射率,并对塔尖进行保护以形成尖利的塔尖结构,亟需对topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂及其制备方法进行改进。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种topcon电池单本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,由按重量百分比计的以下组分组成:

2.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖、分子量为70~90万的甘露聚糖、半乳聚糖、淀粉、杂聚糖中的一种或一种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述脂肪醇聚氧乙烯醚为2wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液;所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~1.7Pa.s。

4.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,...

【技术特征摘要】

1.一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,由按重量百分比计的以下组分组成:

2.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖、分子量为70~90万的甘露聚糖、半乳聚糖、淀粉、杂聚糖中的一种或一种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述脂肪醇聚氧乙烯醚为2wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液;所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~1.7pa.s。

4.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述刻蚀剂由按重量百分比计的...

【专利技术属性】
技术研发人员:王涛封奕凡宝安陶尚龙
申请(专利权)人:苏州云达诣能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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