显示装置和用于制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:42629258 阅读:17 留言:0更新日期:2024-09-06 01:30
提供了一种显示装置和用于制造显示装置的方法,所述显示装置包括:基底;过孔绝缘层,在基底上;第一像素电极,在过孔绝缘层上;第一像素限定层,具有平坦的上表面,在过孔绝缘层上,并且限定暴露第一像素电极的上表面的至少一部分的开口;以及分隔件,在第一像素限定层上并且在平面图中彼此间隔开。

【技术实现步骤摘要】

本公开的各方面涉及显示装置和用于制造该显示装置的方法。更具体地,本公开涉及提供视觉信息的显示装置和用于制造该显示装置的方法。


技术介绍

1、随着信息技术的发展,作为用户与信息之间的联系媒介的显示装置的重要性已经凸显。例如,诸如液晶显示装置(“lcd”)、有机发光显示装置(“oled”)、等离子体显示装置(“pdp”)、量子点显示装置等的显示装置的使用正在增加。

2、最近,已经开发出包括这种显示装置的头戴式显示器(hmd)。头戴式显示器是以眼镜或头盔的形式佩戴并且聚焦在靠近用户眼睛的距离的虚拟现实(vr)或增强现实(ar)的眼镜型监控装置。头戴式显示器可以通过透镜将显示在显示装置上的图像提供给用户的眼睛。

3、在本
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于增强对专利技术的
技术介绍
的理解,因此其可能包含不构成现有技术的信息。


技术实现思路

1、本公开的实施例的各方面涉及一种具有降低的功耗的显示装置。

2、本公开的实施例的各方面涉及一种制造该显示装置的方法。

<p>3、根据一些实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示装置,所述显示装置包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一像素限定层包括:

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第一像素限定层包括无机材料,并且

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一部分包括氮化硅,并且所述第二部分包括氧化硅。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述分隔件中的每个包括第一无机层和在所述第一无机层上的第二无机层,并且

6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,与所述第一无机层的侧表面相比,所述第二无机层的侧表面在远离所述第一无机层的中心的方向上更突出。

...

【技术特征摘要】

1.一种显示装置,所述显示装置包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一像素限定层包括:

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第一像素限定层包括无机材料,并且

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一部分包括氮化硅,并且所述第二部分包括氧化硅。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述分隔件中的每个包括第一无机层和在所述第一无机层上的第二无机层,并且

6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,与所述第一无机层的侧表面相比,所述第二无机层的侧表面在远离所述第一无机层的中心的方向上更突出。

7.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:

8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,与所述第二像素限定层的侧表面相比,所述第一像素限定层的侧表面在远离所述第二像素限定层的中心的方向上更突出。

9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述基底包括:

10.根据权利要求9所述的显示装置,所述显示装置还包括:

11.一种用于制造显示装置的方法,所述方法包括:

12.根据权利要求11所...

【专利技术属性】
技术研发人员:柳春基
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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