中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法技术

提供一种粒径小、折射率低、在分散介质中或树脂中的分散性高的中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法。该粒子是中空二氧化硅粒子，所述中空二氧化硅粒子具有：包含硅的外壳、及其内侧的空洞。所述外壳的厚度为3nm～7nm，所述粒子的平均粒径为20nm～55nm，所述粒子的折射率为1.12～1.35，所述粒子的根据Sears测定法计算出的粒子表面的硅烷醇基的数密度为0.5个/nm2～2.5个/nm2。在将包含该粒子的分散液用于抗蚀剂材料的情况下，在形成图案时，实现了高显影性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开的一个方式涉及一种中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法。

技术介绍

1、近年来，在半导体元件、印刷基板、印刷版、液晶显示面板以及有机el显示面板等的制造中使用的光刻中，在基板上涂布感光性的物质，通过对该物质图案状地实施曝光和显影来实施加工的技术正在普及。该光刻中使用的感光性材料(抗蚀剂材料)是用于在基板表面以图案状形成例如低折射率膜(或高折射率膜)或绝缘膜那样的功能膜的材料。因此，要求该材料具有高灵敏度、高分辨率和高透明性。这样的功能膜通过使用抗蚀剂材料，将其图案化成所期望的形状而形成。该抗蚀剂材料由树脂粘合剂成分和酸产生剂、交联剂以及溶剂那样的成分构成。

2、迄今为止，作为膜的低折射率化的手段，已知在涂布液中使用中空二氧化硅粒子或粒子内部为多孔质的低折射率粒子。例如，在日本特开2019-119848号公报和日本特开2020-166156号公报中示出了作为感光性树脂组合物，使用在粒子内包含气体的二氧化硅粒子，以降低膜的折射率。

3、另外，在日本特开2018-123043号公报中示出了平均粒径小于50nm的二氧化硅系中空粒子分散本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种中空二氧化硅粒子的分散液，其中，

2.根据权利要求1所述的分散液，其中，

3.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

4.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

5.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

6.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

7.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

8.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

9.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

10.一种中空二氧化硅粒子的分散液的制造方法，其中，所述制造方法包括：>

11.根据权...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种中空二氧化硅粒子的分散液，其中，

2.根据权利要求1所述的分散液，其中，

3.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

4.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

5.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，

6.根据权利要求1或2所述的分散液，其中，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：林彰吾，荒金宏忠，村口良，
申请(专利权)人：日挥触媒化成株式会社，
类型：发明
国别省市：