光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、及光学构件的制造方法技术

本发明专利技术提供能够实现厚度薄化、并且能够保持优异的光学性能的光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、及光学构件的制造方法。本发明专利技术的实施方式的光学层叠体具备：厚度为20μm以下的透明树脂层；直接设置于上述透明树脂层的厚度方向上的一面、折射率为1.25以下的多孔层；直接设置于上述多孔层的与上述透明树脂层相反侧的面的粘合剂层；以及直接设置于上述透明树脂层的与上述多孔层相反侧的面的粘接层。将上述透明树脂层从多孔层剥离时的剥离力为1N/25mm以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、及光学构件的制造方法。

技术介绍

1、已知有在2片光学膜之间配置包含折射率比光学膜小的低折射率层的光学层叠体，从而任意地控制包含它们的光学产品的光学特性的技术。作为这样的光学层叠体，例如，已提出了具备基材、和设置于基材上的可变折射率提取层的光学层叠体，其中，可变折射率提取层包含选择性地印刷有折射率相对较小的第1物质的第1区域、和折射率相对较大的第2物质外涂于第1物质而形成的第2区域(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的光学层叠体在厚度方向上的两侧形成有粘合剂层，并通过粘合剂层粘贴于各光学膜。近年来，光学产品的用途多样化，期望光学产品的小型化、进而光学产品中包含的光学层叠体的薄型化。然而，专利文献1中记载的光学层叠体包含支撑可变折射率提取层的基材，难以实现该光学层叠体的薄型化。也对基材的薄型化、将基材从可变折射率提取层剥离除去进行了研究，但基材的薄型化从光学层叠体的制造稳定性的观点出发是困难的，如果将该基材剥离，则有时可变折射率提取层会产生损伤。另外，如果将该基材剥离后直接在可变折射率提取层上设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学层叠体，其具备：

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

3.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

4.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

5.根据权利要求4所述的光学层叠体，其中，

6.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

7.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

8.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

9.一种光学构件，其具备：

10.一种光学层叠体的制造方法，该方法包括：

11.所述权利要求10所述的光学层叠体的制造方法，其中，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种光学层叠体，其具备：

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

3.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

4.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

5.根据权利要求4所述的光学层叠体，其中，

6.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

7.根据权利要求1所述的光学层叠体，...

【专利技术属性】
技术研发人员：服部大辅，森岛谅太，中村诚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：