【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请涉及水处理装置及水处理方法。
技术介绍
1、已知有如下的水处理技术(例如参照专利文献1、非专利文献1)，在所述水处理技术中，使被处理水沿着与电介质相向的电极流动，通过在被处理水与电介质之间的空间内产生的放电而产生臭氧、羟自由基等活性种，对被处理水进行杀菌等处理。
2、在先技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2013-206767号公报(段落0025～0038、图2、图7)
5、非专利文献
6、非专利文献1：niels wardenier et al.，journal of hazardous materials，(美国)，362(2019)p.238-245
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、然而，在上述水处理技术中，在为了处理大量的水而欲使被处理水的流量增加时，被处理水的一部分会呈水滴状飞散并附着在电介质的内表面。若被处理水附着在电介质的内表面，则电流会在电介质的内表面上流动，因此，无法均匀且稳定地形成电介质阻挡放电，有可能会由于放电的局部化等而使得电介质破损。
3、另一方面，在欲形成稳定的电介质阻挡放电的情况下，例如需要限定在排出口的附近等未附着被处理水的水滴的区域地设置高电压电极，放电区域变窄，能够处理的水量受到限制。与此相对，在欲使较高的电力集中在较窄的放电区域而使活性种的产生量增加时，电介质的温度上升，对水处理有用的活性种会被分解，因此，反而会使得处理性能降低。
4、本申请公开了用于解决上述那样的课题的技术，其目的在于得到以稳定的动作高效地处理被处理水的水处理装置及水处理方法。
5、用于解决课题的手段
6、本申请公开的水处理装置的特征在于具备：第一电极，所述第一电极沿轴向延伸；第二电极，所述第二电极以从径向的外侧将所述第一电极包围的方式与所述第一电极同轴配置；电介质，所述电介质呈圆筒状，且介于所述第一电极与所述第二电极之间地同轴配置，在所述第一电极和所述第二电极中的一方的电极与所述电介质之间形成有环状的空隙，通过向所述一方的电极与另一方的电极之间授予电压而产生电介质阻挡放电；以及水膜形成部，在所述水膜形成部与所述一方的电极之间沿着周向以比所述环状的空隙窄的间隔在轴向上的一端侧形成有朝向所述环状的空隙开口的环状流路，在使所述一端侧朝向上方而将轴向设为铅垂时，使被处理水作为将所述一方的电极覆盖的水膜而朝向另一端侧流下。
7、本申请公开的水处理方法使用如下的水处理装置，所述水处理装置具备两个电极和配置在所述两个电极之间的电介质，在所述两个电极中的一方的电极与所述电介质之间形成有以具有恒定的间隔的方式延伸的空隙，其特征在于，所述水处理方法包含：在所述两个电极之间施加电压而产生电介质阻挡放电并生成活性种的工序；从所述空隙的延伸方向上的一端侧导入被处理水的工序；以及使生成的所述活性种作用于导入的所述被处理水的工序，在导入所述被处理水的工序中，使所述一端侧朝向上方而将所述延伸方向设为铅垂，使所述被处理水成为具有比所述恒定的间隔薄的厚度并将所述一方的电极覆盖的水膜，并朝向另一端侧流下。
8、专利技术效果
9、根据本申请公开的水处理装置或水处理方法，通过使被处理水沿着电极呈水膜状流动，从而能够抑制由水滴向电介质的附着引起的电介质阻挡放电的不稳定化，能够以稳定的动作高效地处理被处理水。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种水处理装置，其特征在于，所述水处理装置具备：
2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的水处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1～3中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1～4中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求1～5中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求1～6中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求1～7中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的水处理装置，其特征在于，
10.一种水处理方法，所述水处理方法使用水处理装置，所述水处理装置具备两个电极和配置在所述两个电极之间的电介质，在所述两个电极中的一方的电极与所述电介质之间形成有以具有恒定的间隔的方式延伸的空隙，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种水处理装置，其特征在于，所述水处理装置具备：
2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的水处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1～3中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1～4中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求1～5中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
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