【技术实现步骤摘要】
本技术涉及过滤设备,具体涉及一种半导体设备水质循环过滤设备。
技术介绍
1、随着半导体行业高速发展,产品高度集成化,可靠性需求越来越高,微量的污染都会对产品的性能、可靠性产生很大的影响,因此需要对污染要有严格的控制,比如微粒、有机物、助焊剂等。因而在半导体设备的生产过程中会使用到清洗装置对生产的半导体部件进行清洗,而现有的清洗装置中为了节省水资源的浪费,一般均会安装有循环过滤设备对水进行过滤,从而便于对清洗用水进行循环使用,但现有的循环过滤设备在使用一段时间后其过滤效果会较差,需要进行拆卸清洗或更换部件,而拆卸清洗或更换部件一般均需要循环过滤设备停止工作,影响清洗装置的工作效率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种半导体设备水质循环过滤设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:
3、一种半导体设备水质循环过滤设备,包括支撑架,所述支撑架的顶部固连有固定壳,所述固定壳的顶部固连有矩形壳,所述矩形壳的内部对称开设有两个矩
...【技术保护点】
1.一种半导体设备水质循环过滤设备,包括支撑架(100),其特征在于,所述支撑架(100)的顶部固连有固定壳(110),所述固定壳(110)的顶部固连有矩形壳(120),所述矩形壳(120)的内部对称开设有两个矩形槽(121),且矩形槽(121)的一内侧壁开设有矩形缺口(122),所述矩形壳(120)对应两个矩形槽(121)的位置处均配套设置有过滤机构(200),所述矩形壳(120)顶部的中间位置处嵌入固定有三通管一(140),所述三通管一(140)的顶部连通固定有进水管(142),且三通管一(140)的两端均连通固定有电控阀一(141),所述矩形壳(120)底部的两
...【技术特征摘要】
1.一种半导体设备水质循环过滤设备,包括支撑架(100),其特征在于,所述支撑架(100)的顶部固连有固定壳(110),所述固定壳(110)的顶部固连有矩形壳(120),所述矩形壳(120)的内部对称开设有两个矩形槽(121),且矩形槽(121)的一内侧壁开设有矩形缺口(122),所述矩形壳(120)对应两个矩形槽(121)的位置处均配套设置有过滤机构(200),所述矩形壳(120)顶部的中间位置处嵌入固定有三通管一(140),所述三通管一(140)的顶部连通固定有进水管(142),且三通管一(140)的两端均连通固定有电控阀一(141),所述矩形壳(120)底部的两端均连通固定有输送管(160),且输送管(160)位于固定壳(110)的内部。
2.根据权利要求1所述的半导体设备水质循环过滤设备,其特征在于,所述固定壳(110)的内底面固连有水泵(150),所述水泵(150)的进水端连通固定有连接管(151),且连接管(151)的一端连通固定有三通管二(170),所述三通管二(170)的两端均连通固定有电控阀二(161),且电控阀二(161)的一端与对应位置处输送管(160)的一端连通固定,所述水泵(150)的出水端连通固定有排水管(152),且排水管(152)一端贯穿固定壳(110)侧壁并延伸至固定壳(110)的外侧。
3.根据权利要求1所述的半导体设备水质循环过滤设备,其特征在于,所述过滤机构(200)包括放置块(220),所述放置块(220)的顶部开设有连接槽(221),且连接槽(221)相邻四个内侧壁的顶部均开设有楔形缺口(222),所述放置块(220)的底部开设有圆槽(224),所述圆槽(224)内顶面的中间位置处开设有矩形孔(223),且...
【专利技术属性】
技术研发人员:张斌,华焱建,石明来,
申请(专利权)人:安徽优睿半导体技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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