【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学经纬仪的实时姿态标校精度的测定，具体涉及一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统及方法。
技术介绍
1、塔型平台是一种光学经纬仪的新型安装平台，能够确保光学经纬仪自高处对地面区域进行俯视拍摄。塔型平台自身为嵌套结构，每一级塔体之间都具有一定的间隙，影响了塔体的刚度，因此在塔型平台顶部，光学经纬仪的姿态会出现随机变化，对目标进行测量时，会导致引入测量误差。为了消除测量误差，需要对光学经纬仪的姿态变化进行实时标校，标校的精度直接影响着光学经纬仪的测量精度，通过标校精度可以评估光学经纬仪的测量精度，因此，标校精度的测定至关重要。目前，通常采用室内测定方法对安装在地面的光学经纬仪的实时姿态标校精度进行测定，但是，该测定方法不适用于塔载光学经纬仪实时姿态标校精度的测定且准确性较低。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是解决室内测定方法不适用于塔载光学经纬仪实时姿态标校精度的测定且准确性较低的技术问题，而提供一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统及方法。
2...
【技术保护点】
1.一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
2.根据权利要求1所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
3.根据权利要求1或2所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
4.一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定方法，其特征在于，包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定方法，其特征在于：
6.根据权利要求5所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定方法，其特征在于：
【技术特征摘要】
1.一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
2.根据权利要求1所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
3.根据权利要求1或2所述一种塔载光学经纬仪的实时姿态标校精度测定系统，其特征在于：
【专利技术属性】
技术研发人员：杨军，史国凯，闫旻奇，刘文祥，张德志，郝伟，张敏，李进，陈斌，李昂，
申请(专利权)人：西北核技术研究所，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。