一种生产过程中防止二硫键还原的方法及其应用技术

技术编号:42619917 阅读:73 留言:0更新日期:2024-09-06 01:24
本发明专利技术提供了一种多肽生产过程中防止二硫键还原的方法及其应用,所述方法包括:(a)通过控制细胞培养过程的pH值和/或培养温度防止二硫键还原;所述pH值的控制策略包括:第0~4天pH值为pH 7.0±0.2,第5~16天pH值为pH 6.8±0.1;所述培养温度的控制策略包括:第0~4天为36.5±0.5℃,第5~16天为31.0±0.5℃;或,(b)控制HyClone<supgt;TM</supgt; CellBoost 7a和HyClone<supgt;TM</supgt; CellBoost7b补料培养基的添加比例;或(a)和(b)的组合。本发明专利技术在不使用对人体有害的化合物和不使用特殊设备的情况下,从培养工艺上解决了二硫键还原的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于生物制药,具体涉及一种生产过程中防止二硫键还原的方法及其应用


技术介绍

1、采用基因重组技术构建重组宿主细胞株或者菌株来工业化生产多肽的技术越来越成熟,尤其是在抗体药物和蛋白质药物等生物制药行业中。这种通过培养重组宿主细胞来生产的多肽,纯化是必不可少的步骤。典型的纯化步骤包括去除细胞碎片、将目标多肽从细胞培养收获液中分离以去除非目标蛋白、有机物、无机物和盐等杂质。

2、多肽类蛋白用于生物药的类型主要有igg、双抗、纳米抗体、fc融合蛋白等。单克隆抗体(mab)能够以高亲和力和异常的特异性结合多种靶标,已成为用于治疗癌症、感染性疾病、自身免疫性疾病和炎症、心血管疾病和眼科疾病等多种疾病和病症的日益重要的治疗药物。为了满足日益增长的临床需求,已经投入大量精力以进一步提高抗体表达滴度,以及提升产品质量,在过去的十年中,抗体滴度已经快速增加,目前的生产产量大于10g/l。

3、近年来,随着培养技术的快速发展,细胞培养液中多肽的滴度也不断提高,滴度提高的同时也带来了产品的稳定性问题,如二硫键还原、目标蛋白降解等。

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【技术保护点】

1.一种多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述HyCloneTMCell Boost 7a补料培养基的补料时间包括为从第三天开始每隔2-4天补一次料。

3.根据权利要求2所述的多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述HyCloneTMCell Boost 7a补料培养基的补料时间为第3天-第5天-第7天-第9天-第11天-第13天,或者第3天-第7天-第10天-第13天,每次补料量为起始培养体积计的3%~8%。

4.根据权利要求2或3所述的...

【技术特征摘要】

1.一种多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述hyclonetmcell boost 7a补料培养基的补料时间包括为从第三天开始每隔2-4天补一次料。

3.根据权利要求2所述的多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述hyclonetmcell boost 7a补料培养基的补料时间为第3天-第5天-第7天-第9天-第11天-第13天,或者第3天-第7天-第10天-第13天,每次补料量为起始培养体积计的3%~8%。

4.根据权利要求2或3所述的多肽生产过程中防止二硫键还原的方法,其特征在于,所述hyclonetmcell boost 7b补料培养基的补料时间和hyclonetmcell boost 7a补料时间同...

【专利技术属性】
技术研发人员:田波张英锋汤婕胡裕田震华李利锋黄应峰
申请(专利权)人:宝船生物医药科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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