一种设计集成电路的布局方法技术

技术编号:42613276 阅读:30 留言:0更新日期:2024-09-03 18:20
本发明专利技术公开了一种设计集成电路的布局方法,涉及电路设计技术领域,本发明专利技术包括S1:模块划分:将复杂的集成电路设计分解为多个相对独立的功能模块,每个模块包含若干个电路元件;S2:布局参数设定:为每个功能模块设定布局参数,包括元件间最小间距、模块间连接线的布线层数及功耗限制;其中元件最小间距的设定根据工艺规则和设计规范,确定元件间的最小间距标准,再根据干扰参数对元件的最小间距进行调节;本发明专利技术,通过模块划分和自动化的布局参数设定,本发明专利技术显著提高了集成电路布局设计的自动化程度。这种方法减少了设计者对经验和直觉的依赖,使得设计过程更加系统化和规范化,从而提高了设计效率和设计的可重复性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电路设计,具体为一种设计集成电路的布局方法


技术介绍

1、随着现代电子技术的飞速发展,集成电路(ic)在各个领域的应用变得越来越广泛,从消费电子、通信设备到工业控制系统,无不依赖于高性能、高可靠性的集成电路。然而,随着集成电路设计的复杂性不断提高,设计者面临着越来越多的挑战,尤其是在集成电路的布局设计方面。

2、集成电路的布局设计是确保电路性能、功耗、可靠性和制造成本等多方面要求得到满足的关键环节。一个合理的布局设计不仅能够提高电路的性能,降低功耗,还能够减少电磁干扰(em i),提高电路的电磁兼容性(emc),从而确保电路在各种环境下都能稳定工作。然而,由于集成电路的规模日益增大,功能模块众多,元件间的相互影响日益复杂,传统的布局方法已经难以满足当前的设计需求。

3、在现有的布局方法中,设计者往往需要依赖于经验和直觉进行模块划分和布局参数设定,这不仅效率低下,而且难以保证设计结果的最优性。此外,随着工艺技术的进步,新的材料和制造工艺不断涌现,这对布局设计提出了更高的要求。例如,fi nfet、soi等先进工艺技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述S1的具体步骤如下:

3.根据权利要求1所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述S3的具体操作步骤如下:

4.根据权利要求1所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述S4的具体验证过程如下:

5.根据权利要求4所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述S4中的设计规则检查、电气规则检查、时序分析、信号完整性分析、电源完整性分析、热分析、电磁兼容性分析、功能验证及性能验证的具体操作步骤如下:...

【技术特征摘要】

1.一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述s1的具体步骤如下:

3.根据权利要求1所述的一种设计集成电路的布局方法,其特征在于,所述s3的具体操作步骤如下:

4.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:季侠
申请(专利权)人:合肥磐芯电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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