一种密封件清洗装置制造方法及图纸

技术编号:42611068 阅读:33 留言:0更新日期:2024-09-03 18:18
本技术涉及密封件清洗技术领域,且公开了一种密封件清洗装置,包括箱体和箱盖,箱体的内部设有清洗腔和驱动腔,箱体的侧壁底部固定设有排水管,且排水管的管壁设有开关阀;箱体的清洗腔内部设有清洗筒,清洗筒的筒壁开设有多个均匀分布的漏孔,箱体的清洗腔底部横向固定设有滑轨,滑轨的内部设有滑座,滑座的顶部转动设有转轴,且转轴的上端与清洗筒的底部固定连接;箱体的驱动腔底部固定设有液压缸,液压缸的活塞杆末端固定设有推杆,推杆的远离液压缸的一端延伸至箱体的清洗腔内部并与滑座的侧壁固定连接。本技术采用移动式清洗结构,使得密封件得到彻底清洗,提高了密封件的使用质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及密封件清洗,尤其涉及一种密封件清洗装置


技术介绍

1、密封件会在完成加工后表面留下大量的残留物等等,需要进行清洗保养,从而保证密封件可以正常使用。

2、目前的密封件清洗装置只能够将密封件静止放置在清洗箱的内部,然后通过清洗水对密封件进行浸泡清洗,这虽然能够起到清洗的作用,但是堆积在内部的密封件与水的接触效果不佳,导致密封件的清洗不够彻底,从而影响密封件的使用质量。为此,提出一种密封件清洗装置。


技术实现思路

1、本技术的目的是为了解决现有技术中密封件清洗效果差的问题,而提出的一种密封件清洗装置。

2、为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:

3、一种密封件清洗装置,包括箱体和箱盖,所述箱体的内部设有清洗腔和驱动腔,所述箱体的清洗腔的顶部设有开口,所述箱盖位于箱体的顶部开口处,所述箱体的侧壁底部固定设有排水管,且排水管的管壁设有开关阀;所述箱体的清洗腔内部设有清洗筒,所述清洗筒的筒壁开设有多个均匀分布的漏孔,所述箱体的清洗腔底部横向固定设有滑轨,所述滑轨的内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种密封件清洗装置,包括箱体(1)和箱盖(2),其特征在于:所述箱体(1)的内部设有清洗腔和驱动腔,所述箱体(1)的清洗腔的顶部设有开口,所述箱盖(2)位于箱体(1)的顶部开口处,所述箱体(1)的侧壁底部固定设有排水管(3),且排水管(3)的管壁设有开关阀;

2.根据权利要求1所述的一种密封件清洗装置,其特征在于:所述转轴(8)的轴壁固定设有齿轮(11),所述箱体(1)的清洗腔内侧壁对称固定设有两个固定块(12),两个所述固定块(12)之间横向固定设有齿条(13),且齿条(13)与齿轮(11)啮合设置。

3.根据权利要求1所述的一种密封件清洗装置,其特征在于:...

【技术特征摘要】

1.一种密封件清洗装置,包括箱体(1)和箱盖(2),其特征在于:所述箱体(1)的内部设有清洗腔和驱动腔,所述箱体(1)的清洗腔的顶部设有开口,所述箱盖(2)位于箱体(1)的顶部开口处,所述箱体(1)的侧壁底部固定设有排水管(3),且排水管(3)的管壁设有开关阀;

2.根据权利要求1所述的一种密封件清洗装置,其特征在于:所述转轴(8)的轴壁固定设有齿轮(11),所述箱体(1)的清洗腔内侧壁对称固定设有两个固定块(12),两个所述固定块(12)之间横向固定设有齿条(13),且齿条(13)与齿轮(11)啮合设置。

3.根据权利要求1所述的一种密...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘伟建詹琼芳罗声干刘梓峰
申请(专利权)人:广州司密达实业有限公司
类型:新型
国别省市:

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