【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及像素排布，尤其涉及一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法。
技术介绍
1、目前，随着led技术的迅速发展，显示屏幕像素的发光效率不断提高，功率密度增加，使得led屏幕能够提供更高的亮度和更低的能耗，通常是在led屏幕添加像素数量用来提高led的像素密度，但是这种方法造成像素排布没有优化好的话导致屏幕出现噪点，降低led屏幕显示的效率；
2、因此，本专利技术提出了一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，用以通过根据功能分区，通过对不同分区进行像素的排布，完成对整个像素列阵的排布引导。
2、一方面，本专利技术提供一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，包括：
3、步骤1：获取目标像素阵列的结构，确定每个子结构的实现功能，基于预设尺寸确定每个子结构区域的尺寸和排布像素数量，并对每个子结构区域进行区域功能标签；
4、步骤2：根据任一子结构区域的区域功能标签，确定所述子结构区域的像素排布基础参数，根据所述像素排布基础参数对所述子结构区域进行设计像素电路图；
5、步骤3：基于任一子结构区域的像素电路图，对所述子结构区域进行布线排布，通过模拟优化算法确定最优布线排布；
6、步骤4：根据最优布线排布，设计并选择材料和配置参数，完成实际像素阵列排布，对每个像素进行性能测试，判断所述实际像素阵列排布是否符合设计要
7、另一方面，获取目标像素阵列的结构，确定每个子结构的实现功能，包括：
8、根据目标像素阵列的主要功能需求，确定目标像素阵列的排布参数，基于所述排布参数确定整个目标像素阵列的总体尺寸；
9、根据目标像素阵列的区域功能需求，将整个目标像素阵列划分为若干个子结构区域，确定每个子结构区域的实现功能。
10、另一方面，基于预设尺寸确定每个子结构区域的尺寸和排布像素数量，并对每个子结构区域进行区域功能标签，包括：
11、根据任一子结构的实现功能和所述子结构对应的子结构区域，确定所述子结构区域的具体结构尺寸，基于实现功能-像素映射表的关系，确定所述子结构的预选像素组；
12、基于所述子结构区域的具体结构尺寸，确定排布像素数量；
13、为所有子结构区域配置区域功能标签。
14、另一方面，根据任一子结构区域的区域功能标签，确定所述子结构区域的像素排布基础参数，包括：
15、根据任一子结构区域的区域功能标签，和对应的排布像素数量，在预选像素组中根据匹配度匹配最优像素组；
16、；其中，f表示最优像素组，s{ }表示筛选函数，表示指数函数，表示预设基础匹配度，表示预选像素组中的第i个像素点和区域功能标签的匹配度，由像素-区域功能标签映射标得到，n表示预选像素组一共有n个像素点，表示预选像素组中的所有像素点的和区域功能标签的匹配度中最高匹配度，表示筛选出的最优像素组共有m个像素点，表示预选像素组中的所有像素点的和区域功能标签的匹配度中最低匹配度，表示预选像素组中的所有像素点的和区域功能标签的匹配度的平均值，第i个像素点；
17、根据筛选出的最优像素组，获取所述子结构区域的像素排布基础参数。
18、另一方面，根据所述像素排布基础参数对所述子结构区域进行设计像素电路图，包括：
19、获取任一子结构区域的像素排布基础参数，并且结合所述子结构区域的区域功能标签，确定最优像素组的单个像素对应的基本亮度和基本色彩；
20、基于所述最优像素组中所有单个像素的基本亮度和基本色彩确定每个显色像素的基本三原色的第一亮度；
21、根据显色像素和目标像素阵列构成基础原件的关系，将显色像素就近连接原件像素，构成显色单元；
22、基于每个显色单元中的所有像素的基本三原色的第一亮度生成所述显色单元的第二亮度；
23、基于不同显色单元的第二亮度获取所述显色单元的驱动信号，并且根据驱动信号之间的逻辑连接关系，生成所述子结构区域的像素电路图。
24、另一方面，基于任一子结构区域的像素电路图，对所述子结构区域进行布线排布，包括：
25、基于任一子结构区域的像素电路图，获取所述子结构区域的任一显色单元的第二亮度，基于光强与正向电流的关系函数，并且将关系函数和所述显色单元的驱动信号联合计算，得到不同显色单元之间的关系；
26、基于不同显色单元的关系，获取到所述显色单元的可能单元布线排布。
27、另一方面，通过模拟优化算法确定最优布线排布，包括：
28、将任一子结构区域的不同关系类别的排线赋予第一权重系数和第一评分；
29、利用模拟优化算法对不同显色单元的可能单元布线排布根据第一权重系数和第一评分进行评价，得到第一评价分数；
30、根据第一评价分数选择所述子结构区域的总评分最高的可能单元布线排布定为最优布线排布。
31、另一方面，根据最优布线排布，设计并选择材料和配置参数，完成实际像素阵列排布，对每个像素进行性能测试，判断所述实际像素阵列排布是否符合设计要求，包括：
32、根据所有子结构区域的最优布线排布，选择匹配材料，将材料按照标准配置和电路设计规范生成对应的材料配置参数；
33、根据最优布线排布，利用eda工具完成实际的布局设计，生成对应实际像素阵列排布，进行电路集成制造，构建完成所述实际像素阵列；
34、通过电路测试设备，对整个实际像素阵列进行每个像素的性能测试，得到所述像素的性能信号；
35、将所述像素的性能信号拆分出对应像素的性能参数，通过像素评估模型及通过每个像素的性能参数评估整个实际像素阵列的性能值；
36、若所述性能值大于预设性能值，判定所述实际像素阵列排布符合设计要求，反之，对所述实际像素阵列进行重新布线优化设计。
37、与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
38、本专利技术提供一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，用以通过根据功能分区，通过对不同分区进行像素的排布，完成对整个像素列阵的排布引导。
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1.一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，获取目标像素阵列的结构，确定每个子结构的实现功能，包括：
3.根据权利要求2所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，基于预设尺寸确定每个子结构区域的尺寸和排布像素数量，并对每个子结构区域进行区域功能标签，包括：
4.根据权利要求3所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，根据任一子结构区域的区域功能标签，确定所述子结构区域的像素排布基础参数，包括：
5.根据权利要求4所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，根据所述像素排布基础参数对所述子结构区域进行设计像素电路图，包括：
6.根据权利要求5所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，基于任一子结构区域的像素电路图，对所述子结构区域进行布线排布，包括：
7.根据权利要求6所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的
8.根据权利要求7所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，根据最优布线排布，设计并选择材料和配置参数，完成实际像素阵列排布，对每个像素进行性能测试，判断所述实际像素阵列排布是否符合设计要求，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，获取目标像素阵列的结构，确定每个子结构的实现功能，包括：
3.根据权利要求2所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，基于预设尺寸确定每个子结构区域的尺寸和排布像素数量，并对每个子结构区域进行区域功能标签，包括：
4.根据权利要求3所述的一种有机电致发光复合绝缘像素阵列的排布引导方法，其特征在于，根据任一子结构区域的区域功能标签，确定所述子结构区域的像素排布基础参数，包括：
5.根据权利要求4所述的一种有机电致发光复...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔草香，石超，李成明，杨少延，刘祥林，朱瑞平，郭柏君，陈兆显，李晓东，
申请(专利权)人：国鲸科技广东横琴粤澳深度合作区有限公司，
类型：发明
国别省市：
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