【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及高温抗氧化涂层,具体涉及一种用于mosi2发热元件上的梯度yto涂层材料及其制备方法。
技术介绍
1、随着工业生产的飞速发展,对高温发热元件的使用要求提高。目前,国产mosi2发热元件能在1700℃长期使用,而进口mosi2发热元件最高使用温度可达1850℃。为了提高国产mosi2发热元件使用温度的同时延长其在高温氧化环境中的使用寿命,在国产mosi2发热元件表面制备高温抗氧化涂层。中国专利cn202310741979.7中利用球形薄壁空壳纳米全稳定四方ysz粉体,通过大气等离子喷涂技术制备了ysz涂层,但涂层内部有较多垂直裂纹,不能很好的保护基体;中国专利cn202010887388.7中利用aps法制备的稀土钽酸盐涂层,该方法工艺流程复杂且设备昂贵。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种梯度yto涂层材料及其制备方法。
2、本专利技术的技术解决方案如下:
3、一种梯度yto涂层材料,通过将钇盐与钽盐固
...【技术保护点】
1.一种梯度YTO涂层材料,其特征在于,通过将钇盐与钽盐固溶,在基体上每一梯度形成具有单斜晶体结构的单相化合物,所述单向化合物的物相组分:YTa3O9、YTaO4或Y3TaO7。
2.一种梯度YTO涂层材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的一种梯度YTO涂层材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,至少包括以下技术特征:
4.根据权利要求2所述的一种梯度YTO涂层材料的制备方法,其特征在于,步骤S2中,至少包括以下技术特征:
5.根据权利要求2所述的一种梯度YTO涂层材料的制备方法,其特征在于
...【技术特征摘要】
1.一种梯度yto涂层材料,其特征在于,通过将钇盐与钽盐固溶,在基体上每一梯度形成具有单斜晶体结构的单相化合物,所述单向化合物的物相组分:yta3o9、ytao4或y3tao7。
2.一种梯度yto涂层材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的一种梯度yto涂层材料的制备方法,其特征在于,步骤s1中,至少包括以下技术特征:
4.根据权利要求2所述的一种梯度yto涂层材料的制备方法,其特征在于,步骤s2中,至少包括以下技术特征:
5.根据权利要求2所述的一种梯度yto涂层材料的制备方法,其特征在于,步骤s3中,所述溶胶凝胶浸渍提拉法具体如下:将基体浸渍在前驱体溶液中,浸渍60-180s后以0.8-1cm/min的速度将基体...
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